[發明專利]半色調掩模版及其制造方法

有效

• 申請號: 200910078205.0
• 申請日: 2009-02-20
• 公開（公告）號: CN101813881A
• 公開（公告）日: 2010-08-25
• 發明（設計）人: 郭建;周偉峰;明星
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F1/00
• 分類號: G03F1/00;G03F1/08
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 劉芳

1.一種半色調掩模版，包括基板，所述基板包括有效區域和無效區域， 所述有效區域包括半色調區域、不透光區域和完全透光區域，所述有效區域 以外的區域為所述無效區域，其特征在于，所述半色調區域形成有用于進行 透光率調節的半色調區域層；所述半色調區域層為采用熱致變色材料形成的 熱致變色薄膜；所述熱致變色材料包括二氧化釩；在所述基板的無效區域或 所述不透光區域，形成有用于進行所述熱致變色薄膜溫度控制的溫控電路。

2.根據權利要求1所述的半色調掩模版，其特征在于，所述溫控電路包 括：與所述熱致變色薄膜接觸并進行熱傳導的電阻器，以及與所述電阻器連 接的、用于對所述電阻器進行通電控制的控制電路。

3.根據權利要求1所述的半色調掩模版，其特征在于，所述熱致變色薄 膜的厚度為

4.一種半色調掩模版的制造方法，其特征在于，包括在基板預設的有效 區域上形成不透光區域層和用于進行透光率調節的半色調區域層；

采用熱致變色材料形成作為所述半色調區域層的熱致變色薄膜；所述熱 致變色材料包括二氧化釩；

所述基板的所述有效區域以外的區域為所述基板的無效區域；在所述基板的無 效區域或者在不透光區域，形成用于進行所述熱致變色薄膜溫度控制的溫控電路。

5.根據權利要求4所述的半色調掩模版的制造方法，其特征在于，形成 所述不透光區域層和半色調區域層包括：

在基板上先形成不透光區域層，并在形成有所述不透光區域層的基板上 形成半色調區域層；或者

在基板上先形成半色調區域層，并在形成有所述半色調區域層的基板上 形成不透光區域層。

6.根據權利要求4所述的半色調掩模版的制造方法，其特征在于，所述 形成用于進行所述熱致變色薄膜溫度控制的溫控電路，包括：

形成與所述熱致變色薄膜接觸并進行熱傳導的電阻器，以及與所述電阻 器連接的、用于對所述電阻器進行通電控制的控制電路。