[發(fā)明專利]高真空場調制有機小分子定向納米薄膜的制備方法及系統(tǒng)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910076567.6 | 申請日: | 2009-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN101463463A | 公開(公告)日: | 2009-06-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張福俊;徐征;王永生;趙謖玲;盧麗芳 | 申請(專利權)人: | 北京交通大學 |
| 主分類號: | C23C14/12 | 分類號: | C23C14/12;H01L51/00 |
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| 地址: | 100044北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 空場 調制 有機 分子 定向 納米 薄膜 制備 方法 系統(tǒng) | ||
1.高真空場調制有機小分子定向納米薄膜的制備方法,其特征是:制備方法的步驟:
步驟1,給裝有有機小分子材料的蒸發(fā)舟(3)通直流電,蒸發(fā)速率0.1nm/s~0.3nm/s;
步驟2,在蒸發(fā)的時候,由白光光源(5)向真空腔中入射一束白光,光強為100~1000坎德拉,發(fā)出的白光,通過放在玻璃視窗(7)前的偏振片(6)獲得一束偏振光,偏振光的偏振化方向平行于蒸發(fā)粒子流方向,這束入射光調制單個有機小分子材料分子的取向;
步驟3,被光場調制的有機小分子將垂直于襯底排布,形成定向排布的有機小分子納米薄膜;
步驟1中所述的有機小分子材料為:八羥基喹啉鋁、酞菁銅或聚丁二烯。
2.高真空場調制有機小分子定向納米薄膜的制備系統(tǒng),包括高真空蒸發(fā)腔,其特征是:在高真空蒸發(fā)腔(1)一側的中部開一個與腔體密封的直徑為10cm的玻璃視窗(7),高真空蒸發(fā)腔外,緊挨著玻璃視窗固定一個方向能調節(jié)的偏振片(6),在偏振片前放置一個光強能調節(jié)的白光光源(5)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





