[發(fā)明專利]一種微波輻射加熱制備鈦硅分子篩膜的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910075691.0
• 申請日: 2009-10-10
• 公開（公告）號: CN101693541A
• 公開（公告）日: 2010-04-14
• 發(fā)明（設計）人: 王曉東;黃偉;延靜
• 申請（專利權）人: 太原理工大學
• 主分類號: C01B39/08
• 分類號: C01B39/08
• 代理公司: 太原市科瑞達專利代理有限公司 14101
• 代理人: 龐建英

1.一種微波輻射加熱制備鈦硅分子篩膜的方法，其特征在于是一種通過將載體與合成液直接接觸，以微波輻射加熱晶化來制備鈦硅TS-1分子篩膜的方法，該制備方法依次包括如下步驟：

I、在攪拌下，將正硅酸乙酯、四丙基氫氧化氨水溶液以及鈦酸四丁酯的異丙醇溶液進行混合，得到分子篩膜前驅體膠體合成液，該前驅體膠體合成液的組成為：a?TEOS∶b?TBOT∶c?TPAOH∶d?H₂O，a＝1，b＝0.01～0.025，c＝0.16～0.4，d＝35～50；

II、再將I所合成的前驅體膠體合成液及α-Al₂O₃載體置于晶化釜中，α-Al₂O₃載體水平放置，上表面接觸所合成的前驅體膠體合成液，在170～180℃的微波輻射場中進行加熱3～6小時后，取出冷卻至室溫，用去離子水洗至中性，干燥，450～600℃焙燒2～8小時除去模板劑。

2.按照權利要求1所述的一種微波輻射加熱制備鈦硅分子篩膜的方法，其特征在于所述的載體為片狀α-Al₂O₃陶瓷載體。

3.按照權利要求1所述的一種微波輻射加熱制備鈦硅分子篩膜的方法，其特征在于所述的微波輻射場的頻率為900～4500MHz。

4.按照權利要求1所述的一種微波輻射加熱制備鈦硅分子篩膜的方法，其特征在于所述的分子篩膜前驅體膠體合成液的最優(yōu)組成為：

a＝1，b＝0.01～0.02，c＝0.20～0.35，d＝40～50。