[發明專利]防止隔離式操作裝置產生二次污染的方法有效
| 申請號: | 200910074941.9 | 申請日: | 2009-07-21 |
| 公開(公告)號: | CN101612624A | 公開(公告)日: | 2009-12-30 |
| 發明(設計)人: | 陳昊;齊國虎;霍玉柱;呂云安 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第十三研究所 |
| 主分類號: | B08B17/00 | 分類號: | B08B17/00 |
| 代理公司: | 石家莊國為知識產權事務所 | 代理人: | 米文智 |
| 地址: | 050002河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 防止 隔離 操作 裝置 產生 二次污染 方法 | ||
技術領域
本發明屬于一種防治污染的裝置,涉及對隔離操作裝置的改進中防止二次 污染的裝置,具體是隔離式操作裝置增設了對危險逸出物的收集處理系統,以 實現對污染物收集和再利用的能防止產生二次污染的氮氣保護操作箱。
背景技術
在科學研究和生產過程中,有些化工原料會對空氣中某一或者幾個活潑成 分,如氧氣、水分、二氧化碳等敏感,所以需要在充滿氮氣的密閉環境下進行 存儲、分裝或實施操作。更重要的原因是因為危險、有毒的化工原料直接暴露 在空氣中會對操作人員健康造成威脅或對環境造成污染,因此此類化工原料應 在密閉的環境進行存儲、分裝或實施操作。所以,密閉式的隔離操作空間已經 成為涉及危險原料存儲、分裝或實施操作的必要設備。
例如,金屬汞的存儲或實施操作就需要特殊環境。因為純汞作為液態金屬, 在與氧和水汽,以及大氣中的微量腐蝕性氣體接觸時會被輕微氧化,形成劇毒 的氧化物或鹽。另外汞在0℃時就存在蒸發,氣溫愈高,蒸發愈快愈多,空氣流 動時蒸發更多。還可通過表面的水封層蒸發到空氣中。汞也很易碎成小汞珠, 無孔不入地留存于工作臺、地面等處的縫隙中,既難清除,又使表面積增加而 大量蒸發,形成對環境污染的嚴重威脅。工人衣著及皮膚上的很容易吸附、攜 帶帶到家庭引起更加嚴重的危害。
在半導體行業中,對汞的操作環境除了加大環境通風以外,通常采用物理 方法收集外漏的汞滴和采用硫黃等化學試劑吸附殘余汞的方法。兩種方法一般 結合使用,但如果這些操作必須在凈化廠房進行時,則面臨如下幾個問題:1. 物理方法收集時意味著廠房所有人員與汞同時暴露在工作環境中,而化學吸附 劑是極力避免沾污的半導體行業嚴重的潛在污染源;2.這兩種方法并不能避免汞 蒸汽出現在工作環境中;3.暴露在空氣中的汞由于水汽和灰塵顆粒的原因很容易 變臟,影響測試精度;4.空氣中存在其它有機或無機的與汞有反應的分子,也會 使汞變臟;5.由于汞非常容易與大多數金屬形成汞齊,存在影響半導體金屬工藝 的可能,會造成工藝的不穩定。
類似的對其它需要危險、有毒的化工原料的設備和方法的使用和操作也存 在同樣的問題。
對類似汞這樣的危險、有毒的化工原料的存儲或實施操作,既要保證其不 受污染,滿足品質要求,又要防止其對人類健康的危害和對大氣環境的污染, 人們為了滿足要求設計了各種各樣的隔離式操作裝置,能保證化工原料存儲或 使用操作的密封和氮氣保護環境,從而保證化工原料的潔凈來保證相關工作的 質量和試劑的用量,同時使得操作人員與化工原料相互隔離,但是操作過程當 中難免意外情況發生,例如出現化工原料灑落等情況,但是隔離式操作裝置并 未涉及對灑落的化工原料進行收集的結構設計,從而不可能在密封的隔離間不 暴露在大氣的情況下去除留在其中的化工原料,因此危控化工原料的再次污染 和浪費的問題并沒有得到一次性解決。所以仍無法完全避免化工原料對公眾健 康的傷害、對大氣環境的污染以及對可再利用資源的浪費。手套操作箱作為一 種常見的隔離式操作裝置也存在同樣的缺陷。人們為了提高效率和防止操作過 程中手套破壞引起漏氣造成危害,在隔離式操作裝置的操作間中設置機械手對 化工原料進行操作,但是其操作的準確性卻隨之降低,使之操作失誤頻繁出現, 出現化工原料灑落等情況,所以對灑落的化工原料收集以利于進一步的處理或 利用,防止二次污染和浪費的問題更加突出。
發明內容
本發明的目的是克服現有技術的不足,提供一種安全、經濟、實用、有效 的能防止產生二次污染的氮氣保護操作箱。
為解決上述問題,本發明所采取的技術方案是:一種能防止產生二次污染 的氮氣保護操作箱,用于危險、有毒的化工原料進行隔離操作的場合,相應裝 置的結構中包括與外界隔離的操作間、緩沖間和配套設置的氣體排放系統,其 關鍵改進在于在隔離式操作裝置的結構設計中增設了對危險逸出物的收集處理 系統。
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