[發明專利]一種光學用聚酯薄膜及其制備方法

無效

• 申請號: 200910074857.7
• 申請日: 2009-07-10
• 公開（公告）號: CN101596802A
• 公開（公告）日: 2009-12-09
• 發明（設計）人: 熊躍斌;王旭亮;孫金峰
• 申請（專利權）人: 中國樂凱膠片集團公司;合肥樂凱科技產業有限公司;保定樂凱薄膜有限責任公司
• 主分類號: B32B27/20
• 分類號: B32B27/20;B32B27/36;B32B33/00;B29C69/00;B29C47/92;B29C47/78
• 代理公司: 石家莊冀科專利商標事務所有限公司
• 代理人: 郭紹華;李羨民

1.一種光學用聚酯薄膜，它包含基膜，在基膜的至少一面上涂有底涂層，其特征在于，所述基膜中含有單一粒徑的填料，底涂層中含有粘合劑和平均粒徑不同的大小兩種微粒的填料，大顆粒填料的平均粒徑是小顆粒填料的平均粒徑的2倍以上。

2.根據權利要求1所述薄膜，其特征在于，所述底涂層中的大顆粒填料和小顆粒填料的重量比小于1∶1。

3.根據權利要求2所述光學用聚酯薄膜，其特征在于，所述底涂層中的小顆粒填料的平均粒徑為≤0.1μm。

4.根據權利要求3所述光學用聚酯薄膜，其特征在于，所述底涂層中的粘合劑是聚偏二氯乙烯樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚氨酯樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、聚酰亞胺樹脂中的一種或幾種。

5.根據權利要求4所述光學用聚酯薄膜，其特征在于，所述底涂層中的填料是二氧化硅、硫酸鋇、碳酸鈣、高嶺土、三氧化二鋁、二氧化鈦、交聯聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一種或幾種。

6.根據權利要求5所述光學用聚酯薄膜，其特征在于，所述基膜中的填料是二氧化硅、硫酸鋇、碳酸鈣、高嶺土、三氧化二鋁、二氧化鈦、交聯聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一種或幾種。

7.一種制備如權利要求1、2、3、4、5或6所述光學用聚酯薄膜的方法，其特征在于，它包括以下步驟：

a.將基膜原料送入相應擠出系統熔融擠出；

b.基膜熔體經模頭在轉動的冷卻輥上形成無定型的鑄塑厚片；

c.將冷卻后的厚片預熱后縱向拉伸3.0～3.8倍；

d.將底涂液涂在經縱向拉伸后的膜片的一個面或兩個面上；

e.將涂好底層的膜片經預熱后橫向拉伸3.0～4.0倍；

f.將拉伸后的薄膜熱定型，冷卻后收卷，得到光學用聚酯薄膜。

8.根據權利要求7所述制備光學用聚酯薄膜方法，其特征在于，所述熔融擠出溫度為260℃～300℃。

9.根據權利要求8所述光學用聚酯薄膜方法，其特征在于，所述熱定型溫度為180℃～250℃。