[發(fā)明專利]航天用摻鈰的二次表面鏡玻璃基片的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910074036.3 | 申請日： | 2009-03-31 |
| 公開（公告）號： | CN101508525A | 公開（公告）日： | 2009-08-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 盧勇 | 申請（專利權(quán)）人： | 秦皇島星箭特種玻璃有限公司 |
| 主分類號： | C03C3/095 | 分類號： | C03C3/095;B64G1/50 |
| 代理公司： | 石家莊匯科專利商標事務(wù)所 | 代理人： | 周大偉 |
| 地址： | 066004河北省秦皇島*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 航天 用摻鈰 二次 表面 玻璃 制備 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種航天用摻鈰的二次表面鏡玻璃基片的制備方法，航天用摻鈰的二次表面鏡玻璃基片配方由下述重量比的成分組成：
二氧化硅(SiO2)??54-58；???氧化鋁(Al2O3)3-4；
三氧化二硼(B2O3)5-8；?????氧化鋅(ZnO)??3-4；
氧化鍶(SrO)?????1.5-3；???氧化鈉(Na2O)?19-22；
氧化鈰(CeO2)????4.7-5.3；
采用間接輻射加熱，具體工藝為：將按設(shè)計成分配合好的配合料置于鉑金坩堝中，將其放入硅鉬電爐中加溫，并快速升溫至1460℃，恒溫2小時熔化，再升至1520℃，恒溫3小時澄清，然后降溫出料，將所出的料塊置于電阻爐內(nèi)退火，所得產(chǎn)品即為二次表面鏡的玻璃基片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的航天用摻鈰的二次表面鏡玻璃基片的制備方法，所述的放入硅鉬電爐中快速升溫是由1300℃快速升至1460℃，升溫時間為3小時。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的航天用摻鈰的二次表面鏡玻璃基片的制備方法，所述所出料塊置于電阻爐內(nèi)560℃退火。
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