[發(fā)明專利]基于監(jiān)督等度規(guī)投影的人臉識(shí)別方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910073077.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-10-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101673348A | 公開(公告)日: | 2010-03-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張汝波;王慶軍;劉冠群;徐東;楊歌;史長(zhǎng)亭;劉佰龍;張子迎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 哈爾濱工程大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06K9/66 | 分類號(hào): | G06K9/66 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 150001黑龍江省哈爾濱市南崗區(qū)南通*** | 國(guó)省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 監(jiān)督 投影 識(shí)別 方法 | ||
1.基于監(jiān)督等度規(guī)投影的人臉識(shí)別方法,其特征是:
(1)人臉樣本訓(xùn)練過程
①首先對(duì)人臉訓(xùn)練圖像進(jìn)行預(yù)處理,獲取高維空間中原始訓(xùn)練樣本矩陣 X=[x1,x2…xN],N為訓(xùn)練樣本個(gè)數(shù);
②采用Gabor小波進(jìn)行濾波得到訓(xùn)練樣本的小波特征;
所述Gabor小波對(duì)圖像進(jìn)行濾波,得到新的圖像特征,處理過程是,將原始 訓(xùn)練圖像I(x,y)與Gabor小波濾波器進(jìn)行卷積計(jì)算,二維Gabor小波濾波器定義 為:
其中,u,v表示Gabor核的方向和尺度,z=(x,y)為坐標(biāo)值,||·||表示向量模; kv=kmax/fv,φu=πu/8;kmax為最高采樣頻率,fv為頻率域中的采樣步長(zhǎng);
得到新的圖像特征是將圖像進(jìn)行Gabor小波濾波,若xi′為濾波后的新特征, 將xi′堆疊為一M維長(zhǎng)向量,即構(gòu)成一個(gè)原始訓(xùn)練樣本,所有訓(xùn)練圖像構(gòu)成一 個(gè)原始訓(xùn)練樣本矩陣X=[x1,x2…xN]∈RM×N,N為訓(xùn)練樣本個(gè)數(shù),矩陣X的 每一列代表了一個(gè)原始訓(xùn)練樣本;
③引入訓(xùn)練樣本的類別信息,采用距離公式計(jì)算訓(xùn)練樣本的鄰接矩陣,得 到訓(xùn)練樣本的權(quán)值距離,所述距離公式為:
在得到樣本點(diǎn)權(quán)值距離矩陣后,應(yīng)用k近鄰或ε鄰域算法得到訓(xùn)練樣本的鄰接 矩陣DG,其中d(xi,xj)為樣本間的歐式距離,β為經(jīng)驗(yàn)值,Ci為樣本xi所屬 的類別;
④由訓(xùn)練樣本鄰接矩陣DG計(jì)算訓(xùn)練樣本間的最短路徑距離矩陣D,用兩點(diǎn) 間最短路徑近似兩點(diǎn)間測(cè)地線距離;
⑤計(jì)算投影轉(zhuǎn)換矩陣,通過保持映射前后人臉訓(xùn)練樣本測(cè)地線距離給出目 標(biāo)函數(shù),通過求解目標(biāo)函數(shù)求取描述人臉訓(xùn)練樣本數(shù)據(jù)的低維投影矩陣;
所述計(jì)算投影轉(zhuǎn)換矩陣的具體過程為:函數(shù)f為高維空間到低維空間的投 影函數(shù),yi為xi的低維投影,yi=f(xi),目標(biāo)函數(shù)為保持映射前后訓(xùn)練樣本的 測(cè)地線距離、即最短路徑,即:
其中d(f(xi),f(xj))為對(duì)應(yīng)低維空間的歐式距離;令Sij=Dij2,采用與原始 ISOMAP算法相同的處理方式,用中心化矩陣中心化后得 τ(D)=-HSH/2;DY表示降維后子空間中的歐式距離矩陣,τ(DY)為對(duì)應(yīng)的內(nèi) 積矩陣,則上述的目標(biāo)函數(shù)等價(jià)于:
其中,考慮映射函數(shù)f(x)=aTx,則 τ(DY)=Y(jié)TY=XTaaTX;則式的目標(biāo)函數(shù)轉(zhuǎn)化為:
X[τ(DG)]XTa=λXXTa
對(duì)公式X[τ(DG)]XTa=λXXTa求解得到的前d個(gè)最大特征值對(duì)應(yīng)的特征 向量構(gòu)成了投影轉(zhuǎn)換矩陣A=[a1,a2…ad];
⑥通過投影轉(zhuǎn)換矩陣A計(jì)算訓(xùn)練樣本在低維空間的投影,令 Y=[y1,y2…yN]為訓(xùn)練樣本的低維投影,則Y=ATX;
(2)人臉樣本測(cè)試過程
①對(duì)人臉測(cè)試圖像進(jìn)行預(yù)處理,獲取高維空間中原始測(cè)試樣本x;
②采用Gabor小波進(jìn)行濾波得到測(cè)試樣本的小波特征;
③計(jì)算測(cè)試樣本在低維空間的投影,通過投影轉(zhuǎn)換矩陣A,測(cè)試樣本x的低 維投影為y=ATx;
④采用最近鄰算法判斷測(cè)試樣本的類別,在低維空間中對(duì)y與Y采用最近鄰 算法,則與y最近的訓(xùn)練樣本所對(duì)應(yīng)的類別即為測(cè)試樣本類別。
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G06K 數(shù)據(jù)識(shí)別;數(shù)據(jù)表示;記錄載體;記錄載體的處理
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G06K9-03 .錯(cuò)誤的檢測(cè)或校正,例如,用重復(fù)掃描圖形的方法
G06K9-18 .應(yīng)用具有附加代碼標(biāo)記或含有代碼標(biāo)記的打印字符的,例如,由不同形狀的各個(gè)筆畫組成的,而且每個(gè)筆畫表示不同的代碼值的字符
G06K9-20 .圖像捕獲
G06K9-36 .圖像預(yù)處理,即無須判定關(guān)于圖像的同一性而進(jìn)行的圖像信息處理
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