[發明專利]電感耦合等離子體管筒內表面離子注入改性裝置及方法

有效

• 申請號: 200910071869.4
• 申請日: 2009-04-23
• 公開（公告）號: CN101525738A
• 公開（公告）日: 2009-09-09
• 發明（設計）人: 田修波;汪志健;楊士勤
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: C23C14/48
• 分類號: C23C14/48
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所
• 代理人: 劉同恩

1.一種電感耦合等離子體管筒內表面離子注入改性裝置，它包括至少一個管筒(2)、第一絕緣密封接頭(3)、真空室(4)、射頻電源(5)、脈沖負高壓電源(6)、泵組系統(7)、匹配箱(16)、第二絕緣密封接頭(17)、第三絕緣密封接頭(18)、第一絕緣支架(19)和高壓電纜(20)，射頻電源(5)的輸出端與匹配箱(16)輸入端連接，第一絕緣密封接頭(3)、第二絕緣密封接頭(17)和第三絕緣密封接頭(18)分別設置在真空室(4)的側壁上，第一絕緣支架(19)設置在真空室(4)內的底面上，至少一個管筒(2)設置在第一絕緣支架(19)上，真空室(4)與泵組系統(7)連接，高壓電纜(20)的一端穿過第三絕緣密封接頭(18)與真空室(4)內的至少一個管筒(2)連接，高壓電纜(20)的另一端與真空室(4)外的脈沖負高壓電源(6)連接，其特征在于：它還包括至少一個螺線管(1)、第一電纜(22)和第二電纜(23)，至少一個螺線管(1)設置在管筒(2)內且與管筒(2)同軸設置，螺線管(1)的一端通過第一電纜(22)與真空室(4)外面的匹配箱(16)連接，且第一電纜(22)穿過第一絕緣密封接頭(3)，螺線管(1)的另一端通過第二電纜(23)與射頻電源(5)的地電極(15)連接，且第二電纜(23)穿過第二絕緣密封接頭(17)，螺線管(1)的數量與管筒(2)的數量相同。

2.根據權利要求1所述的電感耦合等離子體管筒內表面離子注入改性裝置，其特征在于：管筒(2)的數量為2～5個，2～5個管筒(2)平行設置在第一絕緣支架(19)上，2～5個管筒(2)之間通過導線連接，各螺線管(1)之間通過導線并聯。

3.根據權利要求1或2所述的電感耦合等離子體管筒內表面離子注入改性裝置，其特征在于：管筒(2)的橫截面形狀為圓形、方形、長方形或三角形，螺線管(1)的橫截面形狀與管筒(2)的橫截面形狀相同。

4.根據權利要求3所述的電感耦合等離子體管筒內表面離子注入改性裝置，其特征在于：它還包括轉動機構，轉動機構由第二絕緣支架(24)、第一軸承(25)、第三絕緣支架(26)、第二軸承(27)、聯軸器(28)和電機(29)組成，第二絕緣支架(24)和第三絕緣支架(26)分別固裝在真空室(4)內的底面上且分別位于管筒(2)的兩端，第一軸承(25)固裝在第二絕緣支架(24)上，螺線管(1)與第一軸承(25)相對的一端設置在第一軸承(25)的中心孔內，第二軸承(27)固裝在第三絕緣支架(26)上，螺線管(1)上與第二軸承(27)相對的一端穿過第二軸承(27)的中心孔與聯軸器(28)連接，聯軸器(28)的另一端與電機(29)的輸出端連接，電機(29)固裝在第三絕緣支架(26)上。

5.根據權利要求3所述的電感耦合等離子體管筒內表面離子注入改性裝置，其特征在于：它還包括移動機構，移動機構由第二絕緣支架(24)、第三絕緣支架(26)、聯軸器(28)、電機(29)、第一導軌(31)、第一滑塊(32)、第二滑塊(33)、第二導軌(34)、螺桿(35)和螺母(36)組成，第二絕緣支架(24)和第三絕緣支架(26)分別固裝在真空室(4)內的底面上且分別位于管筒(2)的兩端，第一導軌(31)固裝在第二絕緣支架(24)上，第一滑塊(32)固裝在第一導軌(31)上，螺線管(1)與第一滑塊(32)相對的一端設置在第一滑塊(32)的中心孔內，第二導軌(34)固裝在第三絕緣支架(26)上，第二滑塊(33)固裝在第二導軌(34)上，螺線管(1)與第二滑塊(33)相對的一端穿過第二滑塊(33)的中心孔與螺母(36)連接，螺母(36)與螺桿(35)螺紋連接，螺桿(35)與聯軸器(28)連接，聯軸器(28)的另一端與電機(29)的輸出端連接，電機(29)固裝在第三絕緣支架(26)上。