[發(fā)明專(zhuān)利]大尺寸工件表面電場(chǎng)拘束微距微弧氧化的處理方法及裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910071792.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-04-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101550579A | 公開(kāi)(公告)日: | 2009-10-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 田修波;張欣盟;鞏春志;楊士勤 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | C25D11/02 | 分類(lèi)號(hào): | C25D11/02 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 朱永林 |
| 地址: | 150001黑龍江*** | 國(guó)省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 尺寸 工件 表面 電場(chǎng) 拘束 微距微弧 氧化 處理 方法 裝置 | ||
1.一種大尺寸工件表面電場(chǎng)拘束微距微弧氧化的處理方法所使用的裝置,它由微弧氧化電源(1)、大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)、陰極裝置、往復(fù)運(yùn)動(dòng)裝置(4)、攪拌裝置(5)、陰極導(dǎo)線(9)、陽(yáng)極導(dǎo)線(10)、電解液槽(11)、微弧氧化電解液(12)和絕緣滑塊(13)組成,其特征在于:所述微弧氧化電解液(12)注入到電解液槽(11)內(nèi),所述陰極裝置由陰極接線柱(3)、導(dǎo)電柵網(wǎng)陰極(7)和屏蔽套(8)組成,所述大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)整體浸入微弧氧化電解液(12)內(nèi),大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)通過(guò)陽(yáng)極導(dǎo)線(10)與微弧氧化電源(1)的正極連接,所述屏蔽套(8)懸置于大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)的表面上且位于微弧氧化電解液(12)內(nèi),所述導(dǎo)電柵網(wǎng)陰極(7)設(shè)置在屏蔽套(8)的內(nèi)部,導(dǎo)電柵網(wǎng)陰極(7)與大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)的表面之間的距離(H)為0.5mm~5mm,所述陰極接線柱(3)的一端與導(dǎo)電柵網(wǎng)陰極(7)連接,陰極接線柱(3)的另一端穿出屏蔽套(8)通過(guò)絕緣滑塊(13)與往復(fù)運(yùn)動(dòng)裝置(4)連接,所述往復(fù)運(yùn)動(dòng)裝置(4)的滑道(4-1)置于電解液槽(11)的上方,所述微弧氧化電源(1)的負(fù)極通過(guò)陰極導(dǎo)線(9)與陰極接線柱(3)連接,所述攪拌裝置(5)的出氣噴頭(5-2)置于微弧氧化電解液(12)內(nèi),所述攪拌裝置(5)的氣泵(5-1)置于電解液槽(11)的外部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述大尺寸工件表面電場(chǎng)拘束微距微弧氧化的處理方法所使用的裝置,其特征在于:所述導(dǎo)電柵網(wǎng)陰極(7)的柵網(wǎng)線徑為0.2mm~5mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述大尺寸工件表面電場(chǎng)拘束微距微弧氧化的處理方法所使用的裝置,其特征在于:所述導(dǎo)電柵網(wǎng)陰極(7)為圓形導(dǎo)電柵網(wǎng)陰極,屏蔽套(8)的橫截面為圓形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述大尺寸工件表面電場(chǎng)拘束微距微弧氧化的處理方法所使用的裝置,其特征在于:所述導(dǎo)電柵網(wǎng)陰極(7)的形狀與大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)的橫截面形狀相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述大尺寸工件表面電場(chǎng)拘束微距微弧氧化的處理方法所使用的裝置,其特征在于:所述屏蔽套(8)由有機(jī)玻璃材料制成。
6.一種大尺寸工件表面電場(chǎng)拘束微距微弧氧化的處理方法,其特征在于該方法的步驟為:
步驟一:將大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)置于裝有微弧氧化電解液(12)的電解液槽(11)內(nèi),并將大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)通過(guò)陽(yáng)極導(dǎo)線(10)與微弧氧化電源的正極相連接;
步驟二:將導(dǎo)電柵網(wǎng)陰極(7)安裝在屏蔽套(8)內(nèi),導(dǎo)電柵網(wǎng)陰極(7)與大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)的表面之間的距離(H)為0.5mm~5mm;
步驟三:將陰極裝置的屏蔽套(8)置與大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)上,將屏蔽套(8)完全浸入到微弧氧化電解液(12)內(nèi),并將陰極裝置的陰極接線柱(3)通過(guò)陰極導(dǎo)線(9)與微弧氧化電源(1)的負(fù)極相連接;
步驟四:將陰極裝置的陰極接線柱(3)的上端通過(guò)絕緣滑塊(13)與往復(fù)運(yùn)動(dòng)裝置(4)連接;
步驟五:開(kāi)啟攪拌裝置(5)的氣泵(5-1),通過(guò)攪拌裝置(5)的出氣噴頭(5-2)對(duì)微弧氧化電解液(12)進(jìn)行攪拌,同時(shí)啟動(dòng)微弧氧化電源(1),微弧氧化電源(1)輸出電壓,導(dǎo)電柵網(wǎng)陰極(7)下方的大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)局部表面出現(xiàn)微弱且細(xì)小的微弧放電斑點(diǎn),繼續(xù)增大微弧氧化電源(1)的輸出電壓至正常微弧放電條件,經(jīng)放電的大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)的局部表面形成微弧氧化陶瓷膜;
步驟六:驅(qū)動(dòng)往復(fù)運(yùn)動(dòng)裝置(4),絕緣滑塊(13)帶動(dòng)陰極裝置,調(diào)整陰極裝置與大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)的相對(duì)位置;
步驟七:重復(fù)步驟六若干次,在大尺寸待處理陽(yáng)極工件(2)的整個(gè)表面形成微弧氧化陶瓷膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述大尺寸工件表面電場(chǎng)拘束微距微弧氧化的處理方法,其特征在于:所述屏蔽套(8)的上端面到微弧氧化電解液(12)水平面的距離(K)為1cm~20cm。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于哈爾濱工業(yè)大學(xué),未經(jīng)哈爾濱工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910071792.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 電子通信系統(tǒng)、裝置和電極鋪設(shè)方法
- 電場(chǎng)通信設(shè)備、電場(chǎng)通信系統(tǒng)、電場(chǎng)通信設(shè)備的控制方法
- 一種電場(chǎng)儀極低頻數(shù)據(jù)時(shí)域頻域綜合校正方法
- 一種電除塵器
- 一種基于電場(chǎng)傳感器確定電場(chǎng)值的方法、裝置和系統(tǒng)
- 空間直流電場(chǎng)測(cè)量設(shè)備
- 空間直流電場(chǎng)測(cè)量設(shè)備
- 一種風(fēng)電場(chǎng)出力序列生成方法和系統(tǒng)
- 電場(chǎng)隔絕裝置和包括這種電場(chǎng)隔絕裝置的電場(chǎng)發(fā)生設(shè)備
- 電場(chǎng)隔絕裝置和包括這種電場(chǎng)隔絕裝置的電場(chǎng)發(fā)生設(shè)備





