[發(fā)明專利]激光晶體抗熱畸變的冷卻裝置及實現(xiàn)方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910070422.5 | 申請日: | 2009-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN101656392A | 公開(公告)日: | 2010-02-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 柴路;葛文琦;閆杰;胡明列;王清月 | 申請(專利權(quán))人: | 天津大學 |
| 主分類號: | H01S3/042 | 分類號: | H01S3/042 |
| 代理公司: | 天津市杰盈專利代理有限公司 | 代理人: | 王小靜 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 激光 晶體 抗熱 畸變 冷卻 裝置 實現(xiàn) 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于激光技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種激光晶體抗熱畸變的冷卻裝置及實現(xiàn)方法。本發(fā)明的特點在于能夠提供激光晶體環(huán)繞側(cè)面的水流,該水流為溫控循環(huán)水;當激光器工作時,不是通過循環(huán)水降溫,而是提供適當?shù)纳郎兀詼p小晶體的橫向溫差,從而減小激光晶體的熱畸變;這樣在較高功率運轉(zhuǎn)時,能夠大大提高激光的光束質(zhì)量;再采用制冷池提供環(huán)繞冷氣對晶體進行整體散熱,以保持晶體的激光效率。
背景技術(shù)
在高功率激光器中,激光晶體內(nèi)部積累的熱效應(yīng)引起的“熱畸變”(包括“熱透鏡”和“熱應(yīng)力”效應(yīng)),導(dǎo)致激光效率的降低和光束質(zhì)量的變壞。因此,“冷卻”一直是高功率激光系統(tǒng)中必不可少的環(huán)節(jié)之一。到目前為止,所有冷卻技術(shù)都是給激光晶體提供降溫為目標。在固體激光器中,給激光晶體冷卻方法都是用銦片包裹晶體,然后放置在銅制基座上,再將基座通冷卻水或直接半導(dǎo)體制冷。
現(xiàn)有冷卻方法的目的是使激光晶體的橫向邊界(側(cè)面)的溫度降低,通過提高內(nèi)外溫差增加導(dǎo)熱率,從而提高激光運轉(zhuǎn)的效率。然而,激光晶體在高功率下引起的“熱畸變”效應(yīng)的主要因素恰恰是溫度差,這是由于晶體的折射率一般都是溫度相關(guān)的,溫差導(dǎo)致晶體各部分的熱致折射率不同,溫差越大折射率差也越大,從而使激光的產(chǎn)生和放大過程被晶體中不同的熱致折射率所調(diào)制,產(chǎn)生光束質(zhì)量畸變。現(xiàn)有冷卻方法的另外一個缺陷是“非環(huán)繞”方式,即冷卻水一般都是在“單邊”通過水冷套,本質(zhì)上就引入了溫差的不對稱性,從而帶來晶體的“熱畸變”。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的是提供一種激光晶體抗熱畸變的冷卻裝置及實現(xiàn)方法。本發(fā)明與只追求降溫而忽視溫差效應(yīng)的傳統(tǒng)冷卻方法不同,提出了一種基于減小激光晶體溫差效應(yīng)的冷卻方法。首先,冷卻水必須采用“環(huán)繞方式”而不是現(xiàn)有技術(shù)的“單邊”方式(圖1);其次,冷卻水不是現(xiàn)有技術(shù)的降溫冷卻,而是通過適當“升溫”來減小晶體側(cè)向邊界與晶體通光中心的溫差;最后,采用環(huán)繞冷氣對晶體進行整體散熱。這種方法通過降低激光晶體中的橫向溫差,大大減小了晶體的“熱畸變”,從而可以明顯改善激光的光束質(zhì)量。
本發(fā)明提出的激光晶體抗熱畸變的冷卻裝置(圖2)包括:
環(huán)繞式水冷套(圖3),用于提供晶體“環(huán)繞對稱”的溫度場分布,并通過水溫可以調(diào)節(jié)控制晶體的環(huán)繞溫度;
制冷池,用于給裝有激光晶體的環(huán)繞式水冷套提供整體外部冷卻環(huán)境;
半導(dǎo)體制冷器,用于提供制冷池內(nèi)的環(huán)境降溫;
排氣風扇,用于維持制冷池中的冷氣流動,增加導(dǎo)熱率。
制冷池的頂面與半導(dǎo)體制冷器的制冷端相連接,制冷池的下端安上排氣風扇,制冷池的側(cè)面有通光窗口;激光晶體安裝在環(huán)繞式水冷套中間;環(huán)繞式水冷套內(nèi)通以溫度可調(diào)的循環(huán)水,環(huán)繞式水冷套與冷卻池隔熱密封連接;環(huán)繞式水冷套置于制冷池中間;晶體通光方向?qū)手评涑氐耐ü獯翱凇?/p>
所述的環(huán)繞式水冷套為銅質(zhì);激光晶體安裝在環(huán)繞式水冷套中間,循環(huán)水環(huán)繞于晶體的周圍;循環(huán)水采用溫度可控的恒溫制冷機提供。
所述的半導(dǎo)體制冷器一邊為制冷端,制冷溫度-20℃-50℃可調(diào),該端與制冷池頂面相連,為制冷池提供降溫。另一邊為散熱端,由散熱片散熱。
所述的制冷池為一金屬封閉空間,為包含激光晶體的環(huán)繞式水冷套提供整體外部冷卻;其上端接半導(dǎo)體制冷器的冷卻端,四壁可通過傳導(dǎo)冷卻;池內(nèi)上端空氣溫度低,可通過對流自然冷卻整個池空間;也可以在底部加一個排氣風扇,使冷氣快速流動,增加導(dǎo)熱率,提高制冷效果;制冷池在晶體通光方向的兩壁上設(shè)置窗口,以便激光通過。
所述的排氣風扇為為與制冷池大小相匹配的小葉扇,置于制冷池底部,使制冷池內(nèi)的冷氣快速流動,增加導(dǎo)熱率,提高制冷效果。
本發(fā)明提出的激光晶體抗熱畸變的實現(xiàn)方法包括的步驟:
1)將激光晶體安裝到環(huán)繞式水冷套中間,將包含晶體的環(huán)繞式水冷套固定于制冷池中間,并保持晶體通光面對準制冷池側(cè)面上的窗口;
2)在制冷池頂面安裝半導(dǎo)體制冷器,底面安裝排氣風扇,半導(dǎo)體制冷器的溫度控制在10℃,通過制冷池壁的傳導(dǎo)和底部排氣風扇的對流作用,維持制冷池內(nèi)的溫度在10℃左右;
3)環(huán)繞式水冷套中的循環(huán)水是由溫度可控的恒溫制冷機提供;對于激光器不同功率下的運轉(zhuǎn),測量出激光晶體的表面溫度;根據(jù)測量的激光晶體表面溫度調(diào)整環(huán)繞式水冷套中的循環(huán)水溫度,使晶體中心與水冷套之間的溫差最小;
4)通過激光光束質(zhì)量分析儀實時監(jiān)測溫差改變前后的激光光斑變化。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于天津大學,未經(jīng)天津大學許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910070422.5/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:耐張線夾
- 下一篇:具有低導(dǎo)通電阻的溝槽DMOS器件
- 同類專利
- 專利分類
H01S 利用受激發(fā)射的器件
H01S3-00 激光器,即利用受激發(fā)射對紅外光、可見光或紫外線進行產(chǎn)生、放大、調(diào)制、解調(diào)或變頻的器件
H01S3-02 .結(jié)構(gòu)零部件
H01S3-05 .光學諧振器的結(jié)構(gòu)或形狀;包括激活介質(zhì)的調(diào)節(jié);激活介質(zhì)的形狀
H01S3-09 .激勵的方法或裝置,例如泵激勵
H01S3-098 .模式鎖定;模式抑制
H01S3-10 .控制輻射的強度、頻率、相位、極化或方向,例如開關(guān)、選通、調(diào)制或解調(diào)





