[發(fā)明專利]浮雕透光圖案玻璃及生產(chǎn)方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910065329.5
• 申請日: 2009-06-21
• 公開（公告）號: CN101602311A
• 公開（公告）日: 2009-12-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張中
• 申請（專利權(quán)）人: 張中
• 主分類號: B44C1/22
• 分類號: B44C1/22;C03C15/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及玻璃加工技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是一種浮雕透光圖案玻璃及生產(chǎn)方法。

背景技術(shù)

從九十年代起，我國的玻璃深加工技術(shù)逐漸成熟，特別是用在玻璃深加工技術(shù)中的酸腐蝕的方法和絲網(wǎng)印刷制圖的方法，已在九十年代末開始運用，但隨著人們精神文化生活的提高，人們對家裝藝術(shù)的欣賞和質(zhì)量要求也越來越高，為此，也要求對玻璃深加工技術(shù)不斷改進(jìn)，以滿足市場的需求。目前，雖然用酸腐蝕方法結(jié)合絲網(wǎng)印刷技術(shù)制作工藝圖案玻璃的技術(shù)工藝已經(jīng)成熟，但是，現(xiàn)有的技術(shù)工藝普遍存在著工藝方法落后，生產(chǎn)成本較高，生產(chǎn)效率低，且因使用的化學(xué)材料多，致使清洗難度大，質(zhì)量難以保障，對環(huán)境有較大的污染。如公開號CN1435327A，闡明為透光立體圖案玻璃，但是，這些技術(shù)方法還不能滿足玻璃被腐蝕后透光性好的問題，因在生產(chǎn)過程中采用了對沒有印刷圖案的部分實施了乳化或蒙砂，無論是采用什么方法的乳化或蒙砂，其玻璃被蒙砂的部分是不透光的或是半透光的，無法表現(xiàn)玻璃圖案的豪華、大氣、美觀、透光的浮雕藝術(shù)效果?，F(xiàn)有技術(shù)中還存在著如下的缺陷：一、需在其沒有印刷圖案的玻璃背面涂抹防腐材料，防腐材料本身就對玻璃有一定的腐蝕性，在加上將玻璃在腐蝕液中腐蝕時，使其玻璃表面失去了原有的透亮光澤；二、在玻璃上涂抹的防腐材料，需進(jìn)行清洗，清洗的難度大，耗工耗時，效果不好；三、制作工藝的耗材成本提高；四、其生產(chǎn)方法在每一道工序中只能單片玻璃生產(chǎn)，如涂抹防腐材料、用腐蝕液進(jìn)行腐蝕、清洗玻璃等，其工序繁雜，效率低；五、被蒙砂過的玻璃部分不會透光，玻璃圖案單一。上述玻璃生產(chǎn)工藝的缺陷致使所生產(chǎn)的玻璃產(chǎn)品品種單一、玻璃圖案的藝術(shù)效果差，產(chǎn)品的檔次低，不能滿足人們對高質(zhì)量、高水平的物質(zhì)文化和精神文化生活的需求。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的，旨在克服現(xiàn)有玻璃加工技術(shù)的不足，提供一種浮雕透光圖案玻璃生產(chǎn)方法，其生產(chǎn)工藝能在所使用的浮雕蝕刻液的蝕刻過程后，將所蝕刻的玻璃面蝕刻到一定的深度并為透光的玻璃體，且可一次實現(xiàn)兩片玻璃的蝕刻，生產(chǎn)工藝簡單，生產(chǎn)的玻璃圖案及無圖案的玻璃部分均呈現(xiàn)透光體，藝術(shù)效果更好。

本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：一種浮雕透光圖案玻璃，由同一片玻璃本體的正面A和玻璃本體的反面B組成，在正面A和反面B上，設(shè)有圖案A₁、圖案B₁和透光的蝕刻面C₁、蝕刻面C₂。

本發(fā)明所述的浮雕透光圖案玻璃，由同一片玻璃本體的正面A和玻璃本體的反面B組成，在正面A或反面B上，設(shè)有圖案A₁或圖案B₁和透光的蝕刻面C₁或蝕刻面C₂。

所述的同一片玻璃本體的正面A和反面B上，設(shè)置的圖案A₁和圖案B₁為透光的圖案，圖案凸起。

所述同一片玻璃本體的正面A或反面B上，設(shè)置的圖案A₁或圖案B₁為透光的圖案，圖案凸起。

所述的蝕刻面C₁和蝕刻面C₂，為透光體。

所述的玻璃正面A和反面B上的圖案A₁和圖案B₁，可以是帶有色彩的圖案，帶有色彩的圖案為能透光的色彩。

所述的玻璃正面A或反面B上的圖案A₁或圖案B₁，可以是帶有色彩的圖案，帶有色彩的圖案為能透光的色彩。

本發(fā)明，所述的蝕刻面C₁和蝕刻面C₂，分別設(shè)置在玻璃圖案A₁和玻璃圖案B₁以外的部位。

所述的蝕刻面C₁和蝕刻面C₂，由專用的蝕刻液蝕刻后形成，蝕刻液由氫氟酸、硝酸和水組成，氫氟酸、硝酸和水的加入比例是：氫氟酸18-24％，硝酸4-6％，其余為水。

根據(jù)我們在實驗室的試驗結(jié)合實踐證明，氫氟酸、硝酸和水的加入比例是：氫氟酸最好是20％，硝酸最好是5％，水最好是75％。

所述的蝕刻面C₁和蝕刻面C₂，由專用的蝕刻液蝕刻后形成，蝕刻液還可由氫氟酸和水組成，氫氟酸和水的加入比例是：氫氟酸20-28％，其余為水。

根據(jù)我們在實驗室的試驗結(jié)合實踐證明，氫氟酸和水的加入比例是：氫氟酸最好是26％，水74％。