[發明專利]中空碳酸鈣方解石晶體的制備方法無效
| 申請號: | 200910065119.6 | 申請日: | 2009-06-04 |
| 公開(公告)號: | CN101580261A | 公開(公告)日: | 2009-11-18 |
| 發明(設計)人: | 杜祖亮;吳新志;戴樹璽;張興堂 | 申請(專利權)人: | 河南大學 |
| 主分類號: | C01F11/18 | 分類號: | C01F11/18 |
| 代理公司: | 鄭州聯科專利事務所(普通合伙) | 代理人: | 劉建芳 |
| 地址: | 47500*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 中空 碳酸鈣 方解石 晶體 制備 方法 | ||
1.一種中空碳酸鈣方解石晶體的制備方法,其特征在于,該方法在無塵箱內進行,包括兩個步驟:1)將分子量為13000~17000的聚β-苯甲基天門冬氨酸溶于揮發性溶劑中制成鋪展液,鋪展液中聚β-苯甲基天門冬氨酸的濃度為0.28~0.32mg/ml,所述揮發性溶劑由氯仿和二氯乙酸混合而成,兩者的體積比為16~19∶1;然后將鋪展液滴于去離子水亞相表面上,使聚β-苯甲基天門冬氨酸鋪展成單分子膜,保持一段時間以使溶劑揮發,然后開始壓膜,壓膜速度大于0小于等于5mm/min,目標表面壓為19~21mN/m,達到目標壓后將亞相表面的單分子層轉移到疏水基片上;2)提膜后的基片干燥后斜插入濃度為4.9~5.1mM的碳酸氫鈣溶液中使晶體生長20~28h,晶體生長溫度控制在25±1℃。
2.根據權利要求1所述的中空碳酸鈣方解石晶體的制備方法,其特征在于,每平方厘米的亞相表面鋪展1-2μL所述的鋪展液。
3.根據權利要求1或2所述的中空碳酸鈣方解石晶體的制備方法,其特征在于,所述步驟1)在常溫常壓下進行,壓膜速度為3mm/min,目標表面壓為20mN/m;達到目標壓后保持一段時間至表面壓穩定后再進行轉移。
4.根據權利要求3所述的中空碳酸鈣方解石晶體的制備方法,其特征在于,所述氯仿與二氯乙酸的體積比為17∶1,聚β-苯甲基天門冬氨酸溶液的濃度為0.3mg/ml。
5.根據權利要求4所述的中空碳酸鈣方解石晶體的制備方法,其特征在于,壓膜前保持30min以使溶劑揮發;達到目標壓后保持5分鐘以使表面壓穩定,然后用垂直提拉法進行轉移,隨后用氮氣將提膜后的基片吹干。
6.根據權利要求5所述的中空碳酸鈣方解石晶體的制備方法,其特征在于,每L碳酸氫鈣溶液的制備方法為:取0.0049~0.0051mol碳酸鈣粉末,加去離子水至1L,通入二氧化碳氣體并攪拌,直到溶液清澈透明;基片插入碳酸氫鈣溶液中后,用保鮮膜將盛裝溶液的容器密封,并用針在保鮮膜上扎5~10個小孔。
7.根據權利要求6所述的中空碳酸鈣方解石晶體的制備方法,其特征在于,所述的疏水基片是經過下述疏水處理的玻璃片:玻璃基片依次在水、丙酮、乙醇、水中用超聲分別處理30min,取出用氮氣吹干;然后放入新配制的90℃Piranha溶液中浸泡8~10h,取出并用氮氣吹干;然后置于盛有氟硅烷的15mL小燒杯中,加半滴水引發反應后用保鮮膜密封燒杯并保持12h;取出后放入烘箱內在120℃下烘1h。
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