[發明專利]苯硼酸修飾的陽離子聚合物及其合成方法和應用

有效

• 申請號: 200910063169.0
• 申請日: 2009-07-14
• 公開（公告）號: CN101597349A
• 公開（公告）日: 2009-12-09
• 發明（設計）人: 鐘振林;彭琪;卓仁禧
• 申請（專利權）人: 武漢大學
• 主分類號: C08F26/02
• 分類號: C08F26/02;C08F8/42;C08G69/48;C08B37/08;C12N15/63;C12N15/82;C12N15/85
• 代理公司: 武漢天力專利事務所
• 代理人: 程 祥;馮衛平

1.一種苯硼酸修飾的陽離子聚合物，其結構式為：

其中，R是和硼酸基團處于苯環的鄰位、間位或是對位的H或者含有1到10個碳原子的烷基；P為在pH為7的環境中帶正電的天然或合成陽離子聚合物；所述陽離子聚合物為聚乙烯亞胺、聚丙烯亞胺、多聚胺、聚酰胺-胺樹形分子、堿性氨基酸聚合物、堿性氨基酸與其他氨基酸的共聚物或殼聚糖；P的分子量Mw在400到500000之間；1≤n≤20。

2.權利要求1所述的苯硼酸修飾的陽離子聚合物的合成方法，包括如下反應步驟：將鄰位、間位或對位的具有式I結構的苯硼酸和在pH為7的環境中帶正電的天然或合成陽離子聚合物溶于甲醇或N，N-二甲基甲酰胺中，在20～60℃反應2～48小時得到淺黃色固體或液體，此粗產品經純化后得到苯硼酸修飾的陽離子聚合物；苯硼酸與陽離子聚合物的摩爾比為1～20∶1；式I中，X為鹵代烷基、醛基、酰鹵基、酸酐基或酯基；R是和硼酸基團處于鄰位、間位或是對位的H或者含有1到10個碳原子的烷基；所述陽離子聚合物為聚乙烯亞胺、聚丙烯亞胺、多聚胺、聚酰胺-胺樹形分子、堿性氨基酸聚合物、堿性氨基酸與其他氨基酸的共聚物或殼聚糖；

3.權利要求1所述苯硼酸修飾的陽離子聚合物在制備基因載體中的應用。

4.根據權利要求3所述的應用，其特征在于：所述基因載體為用于人體或動物細胞基因轉導的載體。

5.根據權利要求3所述的應用，其特征在于：所述基因載體為用于植物細胞基因轉導的載體。