[發明專利]NMOS一次可編程器件及其制造方法無效
| 申請號: | 200910057113.4 | 申請日: | 2009-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN101872765A | 公開(公告)日: | 2010-10-27 |
| 發明(設計)人: | 徐向明;胡曉明;黃景豐;蔡明祥 | 申請(專利權)人: | 上海華虹NEC電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/115 | 分類號: | H01L27/115;H01L29/78;H01L21/8247;H01L21/336;H01L21/265 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人: | 王江富 |
| 地址: | 201206 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | nmos 一次 可編程 器件 及其 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及半導體技術,特別涉及一種NMOS一次可編程器件及其制造方法。
背景技術
常見的NMOS一次可編程器件(one-time?programmable?memory,OTP)結構如圖1、圖2所示,由一個耦合電容加一個NMOS晶體管構成,耦合電容一端接NMOS晶體管柵極,NMOS晶體管的結構為阱區的上部兩側為源、漏區,源、漏區間的阱區的上面為柵介質層,柵介質層之上為浮柵多晶硅層,通常該NMOS晶體管的制造工藝過程是:(1)在襯底之上進行LOCOS(硅局部氧化隔離)或STI(淺槽隔離),(2)在襯底之上形成阱區,(3)在阱區上面形成柵介質層,(4)在柵介質層之上形成浮柵多晶硅,(5)輕摻雜漏注入,(6)側墻形成,(7)源漏形成。NMOS一次可編程器件的工作原理是利用FN(Fowler-Nordheim)隧穿電流或通道熱電子(ChannelHot?Electron,CHE)對NMOS一次可編程器件進行編程,電子存儲在NMOS晶體管浮柵多晶硅(Floating?poly)中,從而引起NMOS晶體管閾值電壓的移動,在相同讀取條件下,讀取的電流具有足夠大的窗口(Window)。但此類OTP在讀取數據時都需要在耦合電容端加一定的電壓,通過耦合電容在NMOS晶體管柵極的耦合電壓,才能使NMOS晶體管開啟;即在讀取數據時在NMOS晶體管柵極端需要加入一個外圍電壓轉換電路。
發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種NMOS一次可編程器件及其制造方法,該NMOS一次可編程器件能用零伏電壓讀取數據,在讀取數據時NMOS管柵極端不需要加入外圍電壓轉換電路。
為解決上述技術問題,本發明的NMOS一次可編程器件,包括一耦合電容和一NMOS晶體管,耦合電容的一端同NMOS晶體管浮柵多晶硅層相連,其特征在于,NMOS晶體管的溝道表面有一耗盡層,耗盡層之上為柵介質層,柵介質層之上為浮柵多晶硅層。
本發明還公開了一種上述NMOS一次可編程器件的制造方法,包括以下步驟:
(1)在襯底之上形成隔離的阱區和場區;
(2)在NMOS晶體管有源區進行一次耗盡注入,經退火后在溝道表面形成一耗盡層;
(3)在NMOS晶體管有源區及耦合電容有源區上面形成柵介質層;
(4)在柵介質層上形成多晶硅層,通過刻蝕形成耦合電容的一端和NMOS晶體管浮柵。
本發明的NMOS一次可編程器件及其制造方法,在形成柵介質層前在NMOS管有源區進行一次耗盡注入,追加耗盡注入后,能實現NMOS管的閾值電壓為負,讀取電流時,在耦合電容端接零伏,可實現用零伏電壓讀取數據,即可省去讀取數據時NMOS晶體管柵極所需要的外圍電壓轉換電路。
附圖說明
圖1是常見的NMOS一次可編程器件電路圖;
圖2是現有的NMOS一次可編程器件的版圖示意圖;
圖3是本發明的NMOS一次可編程器件的版圖示意圖;
圖4是圖3所示本發明的NMOS一次可編程器件的版圖的A-A剖面示意圖;
圖5是本發明的NMOS一次可編程器件在編程前后的特性曲線。
具體實施方式
本發明的NMOS一次可編程器件一實施方式如圖3、圖4所示,包括一耦合電容和一NMOS晶體管,作為耦合電容一端的多晶硅層同作為NMOS晶體管浮柵的多晶硅層相連,NMOS晶體管的溝道表面形成有一耗盡層、耗盡層之上為柵介質層,柵介質層之上為浮柵多晶硅層。
上述NMOS一次可編程器件的制造方法的一實施方式,包括以下步驟:
(1)在襯底之上形成有效隔離的阱區和場區;
(2)在NMOS晶體管有源區進行一次低濃度低能量的耗盡注入,經退火后在溝道表面形成一耗盡層;
(3)在NMOS晶體管有源區、耦合電容有源區上面形成柵介質層;
(4)在柵介質層上形成浮柵多晶硅層(Floating?Poly),通過刻蝕形成耦合電容的一端和NMOS晶體管多晶硅浮柵;
(5)輕摻雜漏注入;
(6)側墻形成,源漏形成。
本發明的NMOS一次可編程器件(OTP),利用在形成柵介質層(GateOxide)前在NMOS晶體管部分的有源區進行一次低濃度低能量的耗盡注入,經退火后將晶體管的表面溝道耗盡,從而實現NMOS晶體管閾值電壓為負值。利用FN電流或CHE對其進行編程,編程后實現NMOS晶體管閾值電壓為正值,從而實現編程前后NMOS晶體管閾值電壓由負變為正,這樣在編程前后用浮柵耦合電壓為零伏去讀取時所對應的電流具有10的5次方以上的Window;
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





