[發(fā)明專利]頂層銅互連層的制作方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910056768.X
• 申請(qǐng)日: 2009-08-20
• 公開（公告）號(hào): CN101996933A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周鳴
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/768
• 分類號(hào): H01L21/768;H01L21/3105
• 代理公司: 北京德琦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018
• 代理人: 牛崢;王麗琴

1.一種頂層銅互連層的制作方法，所述頂層銅互連層在其他銅互連層表面形成，該方法包括：

在刻蝕終止層的表面沉積摻有氟離子的硅玻璃FSG層；

在FSG層的表面沉積SiON層；

刻蝕所述SiON層和FSG層，在刻蝕終止層停止刻蝕，形成雙大馬士革結(jié)構(gòu)；

將上述形成的器件置入反應(yīng)腔內(nèi)進(jìn)行高溫灰化處理，將形成雙大馬士革結(jié)構(gòu)時(shí)，F(xiàn)SG層吸收的水氣揮發(fā)出去；

利用物理氣相沉積的方法，在所述雙大馬士革結(jié)構(gòu)內(nèi)形成銅互連線，并對(duì)其進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光處理。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在刻蝕終止層與FSG層之間，進(jìn)一步包括沉積氧化層。

3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述反應(yīng)腔內(nèi)的壓力為650～700毫托mtorr。

4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述反應(yīng)腔內(nèi)射頻功率為1000～1200瓦。

5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述反應(yīng)腔內(nèi)通入氧氣的流量為8500～9500標(biāo)準(zhǔn)立方厘米每分鐘sccm。

6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述高溫灰化處理的時(shí)間為75～85秒。

7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述高溫灰化處理的反應(yīng)腔溫度為245～255攝氏度。