[發明專利]測量激光頻率變化的裝置和方法

無效

• 申請號: 200910056645.6
• 申請日: 2009-08-19
• 公開（公告）號: CN101629851A
• 公開（公告）日: 2010-01-20
• 發明（設計）人: 王利娟;劉立人;欒竹;孫建鋒;周煜;閆愛民;戴恩文;許楠
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G01J11/00
• 分類號: G01J11/00
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司
• 代理人: 張澤純

1.一種測量激光頻率變化的裝置，其特征在于該裝置由輸入平行平板(1)、相位延遲平行平板(2)、第一剪切平板(3)、第二剪切平板(4)、輸出平行平板(5)、光電探測器線性陣列(6)和信號處理系統(7)所組成，其位置關系是：所述的輸入平行平板(1)與所述的輸出平行平板(5)的材料與厚度均相同且平行放置，在所述的輸入平行平板(1)的第一介質面(101)的反射光路中設置所述的相位延遲平行平板(2)和第一剪切平板(3)，在所述的輸入平行平板(1)的第二介質面(102)的反射光路中設置第二剪切平板(4)，所述的第一剪切平板(3)和第二剪切平板(4)的材料與厚度均相同，所述的第一剪切平板(3)和第二剪切平板(4)傾斜方向相反地在所述的第一剪切平板(3)和第二剪切平板(4)的公共軸的兩邊對稱放置，在所述輸出平行平板(5)的出射光路中設置所述的光電探測器線性陣列(6)，該光電探測器線性陣列(6)由性能參數相同的第一光電探測器(601)、第二光電探測器(602)、第三光電探測器(603)、第四光電探測器(604)和第五光電探測器(605)等間距直線排列形成，該光電探測器線性陣列(6)的輸出端與所述信號處理系統(7)的輸入端相連。

2.根據權利要求1所述的測量激光頻率變化的裝置，其特征在于所述的相位延遲平行平板(2)可改設置在所述輸入平行平板(1)的第二介質面(102)的反射光路中。

3.根據權利要求1所述的測量激光頻率變化的裝置，其特征在于所述的第一剪切平板(3)和第二剪切平板(4)之間具有使之繞所述的公共軸同時反向旋轉的機構。

4.根據權利要求1所述的測量激光頻率變化的裝置，其特征在于所述的信號處理系統(7)由具有A/D轉換功能的多通道高速數據采集卡和具有相應數據處理、分析軟件的計算機所構成，或是由具有相應處理功能的信號處理電路與微處理器所構成。

5.一種利用如權利要求1至4任一項所述的測量激光頻率變化的裝置測量激光頻率變化的方法，其特征在于包括下列步驟：

①將所述的測量激光頻率變化的裝置設置后，調整光路，使待測激光入射到所述的輸入平行平板(1)的第一介質表面(101)的入射角為45°；?

②啟動所述的測量激光頻率變化的裝置開始測量，所述光電探測器線性陣列(6)的第一光電探測器(601)、第二光電探測器(602)、第三光電探測器(603)、第四光電探測器(604)和第五光電探測器(605)分別記錄的光強為I₁、I₂、I₃、I₄和I₅并轉變為相應的電信號，該電信號輸入所述的信號處理系統(7)，經A/D轉換為相應的數字信號；

③所述的信號處理系統(7)進行以下公式運算，獲得激光頻率變化值Δf：

式中：n為相位延遲平行平板(2)的折射率，L為相位延遲平行平板(2)的厚度，c為光速。?