[發(fā)明專利]改善背光模塊暗帶的結(jié)構(gòu)及其方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910055708.6
• 申請日: 2009-07-31
• 公開（公告）號(hào): CN101988682A
• 公開（公告）日: 2011-03-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘇東權(quán)
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州向隆塑膠有限公司
• 主分類號(hào): F21V5/08
• 分類號(hào): F21V5/08;F21Y103/00
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 胡美強(qiáng)

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種背光模塊，尤其涉及一種改善背光模塊暗帶的結(jié)構(gòu)及其方法。

背景技術(shù)

目前作為背光源的背光模塊按光源投射方向的不同可包含側(cè)光式與直下式兩種；側(cè)光式的背光模塊，是以導(dǎo)光板的至少一側(cè)邊做為入光面，光源從該入光面將光線投射進(jìn)入導(dǎo)光板內(nèi)傳遞，再經(jīng)由設(shè)于對稱于出光面的反射片將光線反射通過出光面與光學(xué)膜片而產(chǎn)生發(fā)光效果。

如圖1與圖2所示，直下式的背光模塊，則是在一背蓋3的內(nèi)空間設(shè)置復(fù)數(shù)光源2，再于背蓋3的開口設(shè)置一擴(kuò)散板1，使得擴(kuò)散板的入光面11對應(yīng)于光源2，光源2可將光線直接從入光面11投射進(jìn)入擴(kuò)散板1內(nèi)，再通過出光面12而發(fā)光，進(jìn)而達(dá)到光線均勻效果與支撐功用。

由于直下式背光模塊的入光面與出光面均較大，因此必須設(shè)置數(shù)量較多的光源2才能維持出光面足夠的亮度與輝度；所述光源可以是發(fā)光二極管(LED)或冷光陰極管(CCFL)。CCFL是一種直管狀的光源，因此，一般是如圖1與圖2所示地平行設(shè)置在對應(yīng)擴(kuò)散板1的入光面11，此種結(jié)構(gòu)形態(tài)的背光模塊，由于光源2與擴(kuò)散板1的最近距離處會(huì)在出光面12產(chǎn)生較高的亮度，而兩光源2之間的中央位置因?yàn)榫嚯x光源2較遠(yuǎn)，其亮度會(huì)較低以致于產(chǎn)生暗帶區(qū)域D，造成了擴(kuò)散板亮度不均勻的問題。

為了改善前述背光模塊之暗帶的問題，中國臺(tái)灣地區(qū)I224233號(hào)專利案，是在非正對光源位置的擴(kuò)散板設(shè)置聚光凸塊，以使光線通過該聚光凸塊時(shí)提升通過出光面的亮度，以彌補(bǔ)兩光源之間的暗帶，但此種方式所能改善的效果有限。

中國臺(tái)灣地區(qū)M350032號(hào)專利案，則是針對設(shè)于擴(kuò)散板進(jìn)行改良，其主要特征是在擴(kuò)散板的入光面設(shè)置復(fù)數(shù)平滑部與復(fù)數(shù)個(gè)突出曲部，其中每一突出曲部之位置直接對應(yīng)于一子光源之位置，每一平滑部之位置則對應(yīng)于相鄰二子光源之間之位置。但該技術(shù)特征與習(xí)知技術(shù)并無太大差異，且改良的效果亦不甚明顯。

中國臺(tái)灣地區(qū)公開200844587號(hào)專利案，是在擴(kuò)散板設(shè)置具有多孔隙結(jié)構(gòu)的擴(kuò)散層，該些孔隙在沿著擴(kuò)散板厚度方向的兩側(cè)分別具有第一曲面與第二曲面，由光線射至該孔后，使部分的光線反射，部分光線則穿過該些孔，以及在第一曲面與第二曲面產(chǎn)生折射；其原理仍然是以擴(kuò)散或聚焦的方式進(jìn)行，所能改善的效果亦不大。

中國臺(tái)灣地區(qū)公開200739203號(hào)專利案的改良方案，則是在擴(kuò)散板設(shè)置貫通其基材兩側(cè)的復(fù)數(shù)長形孔洞，使每一孔洞皆具有一弧面，此種設(shè)計(jì)與前述利用擴(kuò)散或聚焦方式來消除暗帶并無差異，所能達(dá)成的效果實(shí)屬有限。

如何提供一種可以有效將直下式背光模塊所產(chǎn)生的暗帶消除是技術(shù)人員要解決的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明需要解決的技術(shù)問題是提供了一種改善背光模塊暗帶的結(jié)構(gòu)，旨在解決上述的問題；

本發(fā)明還提供了采用上述結(jié)構(gòu)的方法。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

本發(fā)明的改善背光模塊暗帶的結(jié)構(gòu)包括：直下式背光模塊；在所述的直下式背光模塊上設(shè)有面對一擴(kuò)散板的入光面的復(fù)數(shù)光源，在兩光源之間的擴(kuò)散板分布有復(fù)數(shù)個(gè)小于該擴(kuò)散板平均厚度的最小厚度；從該最小厚度的位置提供以降低或消除該擴(kuò)散板在兩光源之間所產(chǎn)生的暗帶的原始光源，或提供混合相對較多的以降低或消除該擴(kuò)散板在兩光源之間所產(chǎn)生的暗帶的的原始光源；

本發(fā)明的改善背光模塊暗帶的方法，是通過以下步驟實(shí)現(xiàn)的：

直下式背光模塊設(shè)有面對一擴(kuò)散板之入光面的復(fù)數(shù)光源；

在兩光源之間的擴(kuò)散板分布有復(fù)數(shù)個(gè)小于該擴(kuò)散板平均厚度的最小厚度；

從該最小厚度的位置提供原始光源，或提供混合相對較多的原始光源，以降低或消除該擴(kuò)散板在兩光源之間所產(chǎn)生的暗帶。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：使兩光源之間出光量較低的區(qū)域可以獲得較多原始光源進(jìn)行補(bǔ)償，從而達(dá)到降低甚至消除暗帶的效果。

附圖說明

圖1為顯示現(xiàn)有技術(shù)中直下型背光模塊結(jié)構(gòu)之俯視平面示意圖。

圖2為現(xiàn)有技術(shù)中直下型背光模塊結(jié)構(gòu)之前視平面示意圖。

圖3為顯示本發(fā)明背光模塊結(jié)構(gòu)之俯視平面示意圖。

圖4為顯示本發(fā)明背光模塊結(jié)構(gòu)之前視平面示意圖。

圖5為顯示本發(fā)明在兩光源之間的擴(kuò)散板入光面分布復(fù)數(shù)凹孔之實(shí)施例局部放大示意圖。

圖6為顯示本發(fā)明在兩光源之間的擴(kuò)散板出光面分布復(fù)數(shù)凹孔之實(shí)施例局部放大示意圖。

圖7為顯示本發(fā)明在兩光源之間的擴(kuò)散板分布復(fù)數(shù)洞孔之實(shí)施例局部放大示意圖。

圖8為顯示本發(fā)明將分布于擴(kuò)散板上的凹孔或洞孔，在兩光源之間的中央位置具有最大分布密度，并往相對兩側(cè)逐漸降低分布密度之實(shí)施例俯視平面示意圖。