[發明專利]一種化學機械拋光液有效
| 申請號： | 200910054713.5 | 申請日： | 2009-07-13 |
| 公開（公告）號： | CN101955732A | 公開（公告）日： | 2011-01-26 |
| 發明（設計）人： | 王晨;楊春曉 | 申請（專利權）人： | 安集微電子(上海)有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 31246 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區張江高*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 | ||
【權利要求書】：
1.一種化學機械拋光液，包含：研磨顆粒，次亞磷酸或其鹽，表面活性劑。
2.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的研磨顆粒選自SiO2、Al2O3、ZrO2、CeO2、SiC、Fe2O3、TiO2和Si3N4中的一種或多種。
3.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的研磨顆粒的含量為質量百分比0.1～50％。
4.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的次亞磷酸或其鹽選自金屬鹽、銨鹽和季銨鹽中的一種或多種。
5.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的次亞磷酸或其鹽的含量為質量百分比0.1～5％。
6.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的表面活性劑選自陽離子型表面活性劑、陰離子型表面活性劑和非離子型表面活性劑中的一種或多種。
7.如權利要求6所述的拋光液，其特征在于：所述非離子型表面活性劑為聚乙二醇，所述聚乙二醇的平均分子量為380-420。
8.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述表面活性劑的含量為質量百分比50-500ppm。
9.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述拋光液的pH值為9-14。
10.如權利要求9所述的拋光液，其特征在于：所述拋光液的pH值為10-12。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于安集微電子(上海)有限公司，未經安集微電子(上海)有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910054713.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：電路板定位支撐治具及電路板加工裝置
- 下一篇：倍捻機錠子磁力傳動裝置
