[發明專利]減振支撐裝置及采用該減振支撐裝置的光刻機

有效

• 申請號: 200910053600.3
• 申請日: 2009-06-23
• 公開（公告）號: CN101581347A
• 公開（公告）日: 2009-11-18
• 發明（設計）人: 周宏權;袁志揚
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: F16F15/023
• 分類號: F16F15/023;G03F7/20
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 王 潔

1.一種減振支撐裝置，其特征在于，該減振支撐裝置包括支撐板、與該支撐板相對設置的氣浮塊、主氣缸，該支撐板包括基板、設置在該基板四周的側壁和設置在該基板中心位置的導向孔，該氣浮塊包括擋板、設置在該擋板四周的側壁和設置在該擋板中心位置的導向桿，該導向桿和該導向孔相配合形成一靜壓空氣軸承，該支撐板的側壁和該氣浮塊的側壁通過波紋管密封連接，該支撐板、該氣浮塊、該波紋管和該主氣缸所圍空間內充滿壓力氣體，形成一空氣彈簧。

2.如權利要求1所述的減振支撐裝置，其特征在于：該支撐板的導向孔由設置在該基板中心位置的擋壁圍成，該擋壁套設于該氣浮塊的導向桿的外側。

3.如權利要求2所述的減振支撐裝置，其特征在于：該支撐板的擋壁設置有第一氣孔，該第一氣孔與該支撐板的導向孔連通。

4.如權利要求1所述的減振支撐裝置，其特征在于：該支撐板的基板設置有第二氣孔，該第二氣孔與該支撐板的導向孔連通。

5.如權利要求4所述的減振支撐裝置，其特征在于：該第二氣孔呈“丁”字形。

6.如權利要求1所述的減振支撐裝置，其特征在于：該氣浮塊的擋板設置有第三氣孔，該主氣缸通過該第三氣孔向該支撐板、該氣浮塊和該波紋管圍成的空間通氣。

7.如權利要求1所述的減振支撐裝置，其特征在于：該減振支撐裝置還包括上板和底板，該支撐板、該波紋管和該氣浮塊設置于該上板和底板之間。

8.如權利要求7所述的減振支撐裝置，其特征在于：該支撐板的基板通過球形鉸鏈支撐該上板。

9.如權利要求8所述的減振支撐裝置，其特征在于：該球形鉸鏈的周邊設置有橡膠環，該橡膠環連接該上板和該支撐板。

10.如權利要求7所述的減振支撐裝置，其特征在于：該氣浮塊的側壁鄰近該底板的末端向外側延伸形成延伸部，該延伸部與該底板之間形成靜壓空氣軸承。

11.如權利要求7所述的減振支撐裝置，其特征在于：該底板設置有通孔，該主氣缸的出氣口通過管道與該底板的通孔連接。

12.如權利要求11所述的減振支撐裝置，其特征在于：該主氣缸設置有控制閥，用于調節該主氣缸向該減振支撐裝置的通氣量。

13.如權利要求1所述的減振支撐裝置，其特征在于：該波紋管為金屬波紋管。

14.一種光刻機，包括一機器負荷和一底座，其特征在于：該光刻機還包括設置于該機器負荷和該底座之間的減振支撐裝置，該減振支撐裝置包括支撐板、與該支撐板相對設置的氣浮塊、主氣缸，該支撐板包括基板、設置在該基板四周的側壁和設置在該基板中心位置的導向孔，該氣浮塊包括擋板、設置在該擋板四周的側壁和設置在該擋板中心位置的導向桿，該導向桿和該導向孔相配合形成一靜壓空氣軸承，該支撐板的側壁和該氣浮塊的側壁通過波紋管密封連接，該支撐板、該氣浮塊、該波紋管和該主氣缸所圍空間內充滿壓力氣體，形成一空氣彈簧。

15.如權利要求14所述的光刻機，其特征在于：該光刻機包括三個該減振支撐裝置，該三個減振支撐裝置在該底座上呈三角形分布。

16.如權利要求14所述的光刻機，其特征在于：該光刻機包括四個該減振支撐裝置，該四個減振支撐裝置在該底座上呈四邊形分布。

17.如權利要求14所述的光刻機，其特征在于：該支撐板的導向孔由設置在該基板中心位置的擋壁圍成，該擋壁套設于該氣浮塊的導向桿外側。

18.如權利要求14所述的光刻機，其特征在于：該支撐板的基板設置有第二氣孔，該第二氣孔與該支撐板的導向孔連通。

19.如權利要求14所述的光刻機，其特征在于：該減振支撐裝置還包括上板和底板，該支撐板、該波紋管和該氣浮塊設置于該上板和底板之間。

20.如權利要求19所述的光刻機，其特征在于：該支撐板的基板通過球形鉸鏈支撐該上板。

21.如權利要求20所述的光刻機，其特征在于：該球形鉸鏈的周邊設置有橡膠環，該橡膠環連接該上板和該支撐板。

22.如權利要求19所述的光刻機，其特征在于：該氣浮塊的側壁鄰近該底板的末端向外側延伸形成延伸部，該延伸部與該底板之間形成靜壓空氣軸承。