[發(fā)明專利]相干陣列激光逆達曼光柵合束孔徑裝填裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910053422.4 | 申請日： | 2009-06-19 |
| 公開（公告）號： | CN101592783A | 公開（公告）日： | 2009-12-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 閆愛民;劉立人;戴恩文;孫建鋒 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | G02B27/44 | 分類號： | G02B27/44;G02B5/18;H01S5/40;H01S3/23 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人： | 張澤純 |
| 地址： | 201800上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 相干 陣列 激光 逆達曼 光柵 孔徑 裝填 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種相干陣列激光逆達曼光柵合束孔徑裝填裝置，其特征在于該裝置依次由同軸的鎖相相干的激光陣列(11)、譜分布相位板(12)、傅立葉變換透鏡(13)和逆達曼光柵(14)構(gòu)成，所述的譜分布相位板是依據(jù)達曼光柵在傅立葉譜面上光場的相位分布制作成的相位板，所述的逆達曼光柵的相位分布是達曼光柵的相位分布的復數(shù)共軛，所述的譜分布相位板(12)和逆達曼光柵(14)分別放置于所述的傅立葉變換透鏡(13)的物面和頻譜面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相干陣列激光逆達曼光柵合束孔徑裝填裝置，其特征在于所述的鎖相相干的激光陣列(11)是由激光二極管陣列、光纖激光陣列、固體激光器陣列或氣體激光器陣列產(chǎn)生的激光陣列。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相干陣列激光逆達曼光柵合束孔徑裝填裝置，其特征在于所述的鎖相相干的激光陣列為一維周期陣列，或二維周期結(jié)構(gòu)陣列。
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