[發明專利]一種光刻曝光劑量控制裝置與方法有效
| 申請號： | 200910051547.3 | 申請日： | 2009-05-19 |
| 公開（公告）號： | CN101561636A | 公開（公告）日： | 2009-10-21 |
| 發明（設計）人： | 江潮;徐文;羅聞 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所 | 代理人： | 屈 蘅;李時云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 光刻 曝光 劑量 控制 裝置 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種光刻曝光劑量控制裝置，其特征是，包括：
測量單元，用于實時測量光強分布，并輸出實測信號；
控制單元，耦接所述測量單元，接收所述實測信號，進行運算并輸出控制信號；以及狹縫刀片組，耦接所述控制單元，接收所述控制信號，并依據所述控制信號調整曝光區域大小；
承載單元，耦接所述控制單元，接收所述控制信號，并依據所述控制信號調整運動速度。
2.根據權利要求1所述的光刻曝光劑量控制裝置，其特征在于，所述承載單元為掩模臺，用于承載掩模，并驅動所述掩模運動。
3.根據權利要求1所述的光刻曝光劑量控制裝置，其特征在于，所述承載單元為硅片臺，用于承載硅片，并驅動所述硅片運動。
4.根據權利要求1所述的光刻曝光劑量控制裝置，其特征在于，所述光強分布為光強分布輪廓。
5.根據權利要求1所述的光刻曝光劑量控制裝置，其特征在于，所述裝置還包括激光器，用于提供激光脈沖信號。
6.根據權利要求5所述的光刻曝光劑量控制裝置，其特征在于，所述裝置還包括分光器，耦接所述測量單元，用于分出部分的所述激光脈沖信號，并投影到所述測量單元進行測量。
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