[發明專利]三元復合潤滑薄膜的制備方法

無效

• 申請號: 200910051168.4
• 申請日: 2009-05-14
• 公開（公告）號: CN101555584A
• 公開（公告）日: 2009-10-14
• 發明（設計）人: 周磊;王玉東;尹桂林;余震;何丹農
• 申請（專利權）人: 上海交通大學;上海納米技術及應用國家工程研究中心有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/06
• 代理公司: 上海交達專利事務所
• 代理人: 王錫麟;王桂忠

1、一種三元復合潤滑薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

第一步、將不銹鋼基片拋光處理并洗凈烘干，裝入濺射室內；

第二步、將濺射室內抽真空至10^-4Pa的大氣壓后，向濺射室內通入氬氣直至濺射室內氣壓為0.3Pa，開啟濺射電源，進行中間層濺射處理；

第三步、保持室內氣壓0.3Pa，開啟濺射電源，進行石墨層濺射處理；

第四步、保持室內氣壓0.3Pa，再次開啟濺射電源，進行復合層濺射處理；

第五步、重復第三步和第四步共10次，待真空室溫度降至室溫后，打開真空室，制成薄膜厚度約0.5～2.0μm的減摩WS₂/MoS₂-C復合多層薄膜，每層厚度約為50nm。

2、根據權利要求1所述的三元復合潤滑薄膜的制備方法，其特征是，所述的不銹鋼基片是指：直徑為3cm的不銹鋼圓片，厚度為4mm。

3、根據權利要求1所述的三元復合潤滑薄膜的制備方法，其特征是，所述的拋光處理是指：將不銹鋼基片拋光至光潔度小于0.05μm。

4、根據權利要求1所述的三元復合潤滑薄膜的制備方法，其特征是，所述的洗凈烘干是指：用無水酒精或丙酮在超聲波清洗器中將不銹鋼基片清洗10～20min后置于25℃環境下烘干不銹鋼基片表面的無水酒精或丙酮。

5、根據權利要求1所述的三元復合潤滑薄膜的制備方法，其特征是，所述的中間層濺射處理是指：以功率為80W的射頻濺射中間層靶，濺射處理的工作氣壓為0.3Pa，濺射時間35～45min。

6、根據權利要求5所述的三元復合潤滑薄膜的制備方法，其特征是，所述的中間層靶是指厚度90～110nm的鎳靶、鈦靶或鉻靶。

7、根據權利要求1所述的三元復合潤滑薄膜的制備方法，其特征是，所述的石墨層濺射處理是指：以功率為100～300W的射頻濺射石墨層靶，濺射處理的工作氣壓為0.3Pa，濺射時間2～1.5min。

8、根據權利要求7所述的三元復合潤滑薄膜的制備方法，其特征是，所述的石墨層靶是指厚度為3mm的石墨靶。

9、根據權利要求1所述的三元復合潤滑薄膜的制備方法，其特征是，所述的復合層濺射處理是指：以功率為100～300W的射頻濺射復合靶，濺射處理的工作氣壓為0.3Pa，濺射時間2～5min。

10、根據權利要求1所述的三元復合潤滑薄膜的制備方法，其特征是，所述的復合靶的厚度為3mm，該復合靶的組分及質量比為：40％的WS₂和60％的MoS₂。