[發明專利]超大拼接顯示屏的場致發射顯示模塊及其制備方法

有效

• 申請號: 200910050971.6
• 申請日: 2009-05-11
• 公開（公告）號: CN101556894A
• 公開（公告）日: 2009-10-14
• 發明（設計）人: 馮濤;孫卓;陳奕衛;林麗鋒;丁慧;孫鵬
• 申請（專利權）人: 華東師范大學;上海納晶科技有限公司
• 主分類號: H01J31/12
• 分類號: H01J31/12;H01J9/00;G09F9/00
• 代理公司: 北京連城創新知識產權代理有限公司
• 代理人: 劉伍堂

1.一種超大拼接顯示屏的場致發射顯示模塊，包括陽極玻璃基板、陰極玻璃基板、封接邊、熒光粉、隔離子、陰極發射體，其特征在于：陽極玻璃基板(7)與陰極玻璃基板(8)呈上下平行布置，陽極玻璃基板(7)與陰極玻璃基板(8)之間設有呈柵格狀布置的隔離子(11)，在陽極玻璃基板(7)與陰極玻璃基板(8)的左右兩側邊緣預留寬度1/2像素間距的封接邊(9)，在陽極玻璃基板(7)的下表面設有條狀陽極電極(6)，在條狀陽極電極(6)下表面設有熒光粉層(10)，對應條狀陽極電極兩端處的陽極玻璃基板前后兩側設有陽極側引線(41)，在陰極玻璃基板(8)上表面設有條狀陰極電極(2)對應條狀熒光粉層(10)，在條狀陰極電極(2)表面覆有一層冷陰極發射體(12)，在陰極玻璃基板(8)背面設有背電極(5)，背電極(5)與條狀陰極電極(2)的兩端采用陰極側引線(4)連接，所述陰極玻璃基板(8)上設有一排氣孔(3)。

2.一種超大拼接顯示屏的場致發射顯示模塊的制備方法，其特征在于包括如下工藝流程：陰極制備、陽極制備、陰陽極封裝，所述的陰極制備包括如下工藝：(1)陰極玻璃基板準備：陰極玻璃基板切割，側面拋光，中間預留排氣孔，清洗；(2)陰極電極及背電極制備：在陰極玻璃基板正反兩面采用印刷或蒸發或濺射方法制備金屬或導電氧化物薄膜，再采用光刻腐蝕法使陰極電極及背電極圖形化；(3)陰極電極與背電極連線：采用噴涂方法在陰極?玻璃基板的一側面對應陰極電極及背電極的區域噴上導電漿料作為陰極側引線，并使陰極電極與背電極導通；(5)冷陰極發射體制備：采用生長或印刷的方法在陰極電極上制備冷陰極發射體；所述的陽極制備包括如下工藝：(1)陽極玻璃基板準備：陽極玻璃基板切割，側面拋光，清洗；(2)透明的陽極電極制備：采用真空沉積或絲網印刷的成膜方式，在陽極玻璃基板上表面制備透明導電薄膜層，采用光刻腐蝕技術，使陽極電極圖形化；(3)陽極電極側引出：采用噴涂方法在陽極玻璃基板的一側面對應陽極電極的區域噴上導電漿料作為陽極側引線，使陽極電極通過陽極玻璃基板側面引出；(4)陽極熒光粉制備：采用印刷或電泳方法將熒光粉轉移到透明的陽極電極上；所述的陰陽極封裝為：(1)?將由上述制備的陽極玻璃邊緣預涂低熔點玻璃粉漿料；(2)低熔點玻璃粉漿料預燒；(3)隔離子放置：采用自動點膠機放置50-200μm的二氧化硅小球在陽極基板上作為隔離子；(4)陰陽極玻璃組裝燒結：將陰陽極玻璃裝配好后，在氮氣保護下以450℃高溫燒結30分鐘；(6)器件排氣、封離：通過陰基玻璃基板的排氣孔，采用真空排氣臺排氣至5×10^-4Pa～1×10^-5Pa，封離并激活吸氣劑；(7)陽極側引線與陰極玻璃基板背電極連線：采用噴涂法在陰、陽極玻璃基板側引線區域再次噴涂銀漿，使陽極ITO電極與背電極連通，陰極與陽極通過側面引出的側引線全部會集在陰極玻璃基板的背面作為電信號引入區域。

3.如權利要求2所述的一種超大拼接顯示屏的場致發射顯示模塊的制備方法，其特征在于：所述的金屬為Ag或Al或Cu或Cr或Ni，或采用導電氧化物ZnO:Al或ITO或SnO₂。

4.如權利要求2所述的一種超大拼接顯示屏的場致發射顯示模塊的制備方法，其特征在于：所述的導電漿料為銀漿或導電石墨漿料。

5.如權利要求2所述的一種超大拼接顯示屏的場致發射顯示模塊的制備方法，其特征在于：采用生長或印刷的方法在陰極電極上制備冷陰極發射體，是將碳納米管漿料或氧化鋅納米纖維采用印刷的方法制備在陰極電極上，或將碳納米管漿料或氧化鋅納米纖維或硅納米尖錐，采用定向生長的方法制備在陰極電極上。

6.如權利要求2所述一種超大拼接顯示屏的場致發射顯示模塊，其特征在于：所述的排氣孔的孔徑小于像素間距。?