[發(fā)明專(zhuān)利]激光干涉儀測(cè)量裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910050529.3
• 申請(qǐng)日: 2009-05-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101551235A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-10-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張俊
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G01B11/02
• 分類(lèi)號(hào): G01B11/02;G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所
• 代理人: 屈 蘅;李時(shí)云

1.一種用于測(cè)量工件臺(tái)位移的激光干涉儀測(cè)量裝置，其特征在于，包括：

設(shè)在所述工件臺(tái)一側(cè)的激光干涉儀，其出射水平的第一測(cè)量光及第二測(cè)量光；

設(shè)在所述工件臺(tái)上方的第一反射鏡；

設(shè)在所述工件臺(tái)的與所述干涉儀相對(duì)的側(cè)面上的第二反射鏡；及

設(shè)在所述工件臺(tái)上方、位于所述第一反射鏡與所述干涉儀之間的折射鏡；

其中，所述第一測(cè)量光出射到所述折射鏡，并由所述折射鏡折射到所述第一反射鏡，然后所述第一測(cè)量光由所述第一反射鏡反射至所述折射鏡，再經(jīng)所述折射鏡折射回所述干涉儀；并且

所述第二測(cè)量光射到所述第二反射鏡，并由所述第二反射鏡反射至所述干涉儀。

2.如權(quán)利要求1所述測(cè)量裝置，其特征在于，所述折射鏡在垂直方向厚度漸變。

3.如權(quán)利要求2所述的測(cè)量裝置，其特征在于，所述折射鏡的第一折射面與所述第一測(cè)量光垂直，所述折射鏡的第二折射面與所述第一測(cè)量光成51.738度，從而折射出與所述第一測(cè)量光成30度的折射光。

4.如權(quán)利要求3所述的測(cè)量裝置，其特征在于，所述折射鏡由折射率n＝1.5且透過(guò)率大于99％的玻璃制成。

5.如權(quán)利要求1所述測(cè)量裝置，其特征在于，所述第一反射鏡與所述第一測(cè)量光成60度角。

6.如權(quán)利要求1所述測(cè)量裝置，其特征在于，所述折射鏡與所述第一反射鏡之間還包括第三反射鏡，其將所述折射鏡所折射出的折射光反射至所述第一反射鏡，并且所述第一反射鏡與所述第一測(cè)量光平行。

7.如權(quán)利要求1所述測(cè)量裝置，其特征在于，所述折射鏡為直角三角形。

8.如權(quán)利要求1所述測(cè)量裝置，其特征在于，所述折射鏡為等腰三角形。

9.如權(quán)利要求1所述測(cè)量裝置，其特征在于，所述第一反射鏡安裝在安裝所述干涉儀的機(jī)械框架上。