[發(fā)明專利]基于二極照明的光刻機(jī)投影物鏡奇像差的檢測(cè)系統(tǒng)和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910050310.3 | 申請(qǐng)日: | 2009-04-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101551594A | 公開(公告)日: | 2009-10-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 彭勃;王向朝;邱自成;袁瓊雁;曹宇婷;王渤帆 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人: | 張澤純 |
| 地址: | 201800上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 二極 照明 光刻 投影 物鏡 奇像差 檢測(cè) 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種二極照明的光刻機(jī)投影物鏡奇像差的檢測(cè)系統(tǒng),包括:產(chǎn)生照明光場(chǎng)的照明光源(1);照明系統(tǒng)(2);用于承載測(cè)試掩模(3)并擁有精確定位能力的掩模臺(tái)(4);能將通過測(cè)試掩模(3)上的檢測(cè)標(biāo)記(5)的光束匯聚到硅片面且數(shù)值孔徑可調(diào)的投影物鏡(6);能承載硅片并具有三維掃描能力和精確定位能力的工件臺(tái)(7);安裝在該工件臺(tái)(7)上的像傳感器(8),與所述像傳感器(8)相連并能進(jìn)行數(shù)據(jù)處理的計(jì)算機(jī)(9),其特征在于:
所述的照明光源(1)是二極照明光源,該二極照明光源包括兩組二極連線互相垂直的照明方式,二極照明光源的兩極光源由兩個(gè)圓形擴(kuò)展光源構(gòu)成,極相干半徑因子為0.2,兩極光源的極中心相干因子在0.3至0.8的范圍之間調(diào)整;
所述的照明系統(tǒng)(2)用于調(diào)整所述二極照明光源產(chǎn)生的二極照明光場(chǎng)的光強(qiáng)分布、極中心相干因子和極相干半徑因子;
所述的檢測(cè)標(biāo)記(5)由兩組移相光柵組成,分別為y方向檢測(cè)標(biāo)記(51)和x方向檢測(cè)標(biāo)記(52),兩組光柵的線條方向分別為y方向和x方向;當(dāng)檢測(cè)x方向奇像差時(shí)采用x方向檢測(cè)標(biāo)記(52),當(dāng)檢測(cè)y方向奇像差時(shí)采用y方向檢測(cè)標(biāo)記(51);所述移相光柵為交替型移相光柵,相鄰?fù)腹鈪^(qū)域的相位差為180度,相位區(qū)域即透光區(qū)域的寬度記為pw,光柵周期P為不透光區(qū)域和透光區(qū)域的寬度之和;所述移相光柵的線空比為1∶2,即光柵相位區(qū)域?qū)挾萷w和光柵周期P的比值為2∶3。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二極照明的光刻機(jī)投影物鏡奇像差的檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于所述的移相光柵的周期對(duì)于二極照明方式的優(yōu)化結(jié)果為1080nm,不透光區(qū)域的寬度為360nm,透光區(qū)域的寬度為720nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二極照明的光刻機(jī)投影物鏡奇像差的檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于所述的照明光源(1)為汞燈、準(zhǔn)分子激光器、激光等離子體光源、放電等離子體光源。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二極照明的光刻機(jī)投影物鏡奇像差的檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于所述的像傳感器(8)為CCD、光電二極管陣列或其它具有光電信號(hào)轉(zhuǎn)換功能的探測(cè)器陣列。
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