[發(fā)明專利]感測和移除被加工半導(dǎo)體工藝件的殘余電荷的系統(tǒng)和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910049960.6 | 申請日: | 2009-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN101872733A | 公開(公告)日: | 2010-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 倪圖強;陳金元;王曄;杜若昕;歐陽亮 | 申請(專利權(quán))人: | 中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L21/66;H05F3/00 |
| 代理公司: | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人: | 王潔 |
| 地址: | 201201 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 加工 半導(dǎo)體 工藝 殘余 電荷 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種對反應(yīng)室內(nèi)靜電夾盤上被夾持的半導(dǎo)體工藝件去夾持的系統(tǒng),其中一射頻源產(chǎn)生和維持等離子體來處理該反應(yīng)室內(nèi)的半導(dǎo)體工藝件,至少一導(dǎo)電的升降頂針被用來在半導(dǎo)體工藝件處理后與半導(dǎo)體工藝件接觸而使半導(dǎo)體工藝件放電,該系統(tǒng)包括:
一殘余電荷感測器,其被設(shè)置于沿著一第一放電路徑,通過該第一放電路徑來感測半導(dǎo)體工藝件的殘余電荷放電;
一第一電感,連接于殘余電荷感測器和升降頂針之間;和
一控制器,從殘余電荷感測器接收輸出信號,并決定殘余電荷的數(shù)量。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),所述控制器還包括:
一前饋控制系統(tǒng),其根據(jù)殘余電荷的數(shù)量產(chǎn)生一控制信號來為下一片半導(dǎo)體工藝件的后續(xù)去夾持操作調(diào)整放電直流電壓參數(shù)。
3.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),進(jìn)一步包括:
一支持靜電夾盤的導(dǎo)電基座,其中射頻源通過該導(dǎo)電基座被耦合至反應(yīng)室。
4.如權(quán)利要求3所述的系統(tǒng),所述升降頂針與導(dǎo)電基座電連接,使二者電勢相同。
5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),所述殘余電荷感測器包括一電阻和橫跨該電阻的電壓積分器。
6.如權(quán)利要求5所述的系統(tǒng),所述殘余電荷感測器還包括一與所述電阻串聯(lián)的一第二電感。
7.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),所述殘余電荷感測器包括一電容和橫跨該電容器的電壓監(jiān)視器。
8.如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng),所述殘余電荷感測器還包括該電容的一放電路徑。
9.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中一第一開關(guān)位于所述殘余電荷感測器和所述第一電感之間,用于當(dāng)所述第一開關(guān)被閉合時建立一第一放電路徑。
10.一種方法,包括:
在一反應(yīng)室內(nèi)通過施加一夾持電壓使半導(dǎo)體工藝件被夾持在一靜電夾盤上;
將一射頻源耦合至反應(yīng)室內(nèi)產(chǎn)生和維持等離子體對半導(dǎo)體工藝件進(jìn)行處理;
在一第一開關(guān)和反應(yīng)室之間放置一射頻阻斷電感,來阻斷射頻電流沿一第一放電路徑到達(dá)該第一開關(guān)至接地;
終止夾持電壓;
抬高至少一個導(dǎo)電的升降頂針使其接觸半導(dǎo)體工藝件的下表面,將半導(dǎo)體工藝件的殘余電荷沿該第一放電路徑放電;
感測在半導(dǎo)體工藝件上的殘余電荷;和
確定殘余電荷的數(shù)量,來產(chǎn)生一與殘余電荷的數(shù)量相關(guān)的控制信號。
11.如權(quán)利要求10所述的方法,其中確定殘余電荷的數(shù)量的步驟包括:
在升降頂針抬高運動時,通過估算跨越一放電電阻上的電壓-時間圖的總面積來計算半導(dǎo)體工藝件上殘余電荷的數(shù)量。
12.如權(quán)利要求10所述的方法,其中確定殘余電荷的數(shù)量的步驟包括:
在升降頂針抬高運動時,通過估算代表電荷向沿該第一放電沿路徑設(shè)置的一電容轉(zhuǎn)移的電壓-時間圖的總面積來計算半導(dǎo)體工藝件上總的殘余電荷的數(shù)量。
13.如權(quán)利要求10所述的方法,進(jìn)一步包括:
使用該控制信號來為下一片半導(dǎo)體工藝件的后續(xù)去夾持操作調(diào)整一放電直流電壓參數(shù)。
14.如權(quán)利要求10所述的方法,所述殘余電荷的放電步驟更進(jìn)一步包括:
在升降頂針接觸到半導(dǎo)體工藝件的底表面之前,閉合一位于該升降頂針和一殘余電荷感測器之間的一第一開關(guān)。
15.一種半導(dǎo)體工藝件去夾持系統(tǒng),包括:
靜電夾盤,通過靜電力來夾持半導(dǎo)體工藝件;
承載靜電夾盤的導(dǎo)電基座;
一個射頻源耦合至導(dǎo)電基座,以產(chǎn)生和維持等離子體來處理半導(dǎo)體工藝件;
至少一導(dǎo)電的升降頂針,其沿著靜電夾盤上的一開孔從一收回位置向上移動以使其接觸半導(dǎo)體工藝件的底表面;和
一電連接器,將導(dǎo)電的升降頂針與導(dǎo)電基座相連接。
16.如權(quán)利要求15所述的系統(tǒng),進(jìn)一步包括:
一第一開關(guān),當(dāng)其被關(guān)閉及當(dāng)升降頂針接觸半導(dǎo)體工藝件時給半導(dǎo)體工藝件建立一第一放電路徑。
17.如權(quán)利要求16所述的系統(tǒng),進(jìn)一步包括:
一殘余電荷感測器,其沿著該第一放電路徑而被設(shè)置,通過該第一放電路徑來感測半導(dǎo)體工藝件的殘余電荷放電。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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