[發明專利]微透鏡陣列無效
| 申請號: | 200910049301.2 | 申請日: | 2009-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN101520523A | 公開(公告)日: | 2009-09-02 |
| 發明(設計)人: | 周松鉆;李仲禹;黃玲 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | G02B3/00 | 分類號: | G02B3/00;G02B1/10 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所 | 代理人: | 屈 蘅;李時云 |
| 地址: | 201203上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透鏡 陣列 | ||
1.一種微透鏡陣列,包括至少兩個接觸排列的微透鏡單元,所述微透鏡單元由前、后工作端面和側面圍成,所述前工作端面組成第一級微透鏡陣列,所述后工作端面組成第二級微透鏡陣列,其特征在于:所述微透鏡單元的側面的全部或部分涂鍍吸光介質膜層。
2.如權利要求1所述的微透鏡陣列,其特征在于:所述吸光介質膜層采用石墨粉或油墨。
3.如權利要求1所述的微透鏡陣列,其特征在于:所述吸光介質膜層是具有選擇性吸收功能的吸光介質膜層。
4.如權利要求3所述的微透鏡陣列,其特征在于:所述具有選擇性吸收功能的吸光介質膜層是氧化鉍或硫化鎘。
5.如權利要求1所述的微透鏡陣列,其特征在于:所述微透鏡單元是一棒狀體。
6.如權利要求4所述的微透鏡陣列,其特征在于:所述棒狀體的橫截面是多邊形或圓形。
7.如權利要求1所述的微透鏡陣列,其特征在于:所述微透鏡單元的前工作端面與后工作端面曲率半徑不相同。
8.如權利要求1所述的微透鏡陣列,其特征在于:所述微透鏡單元錯位排列。
9.如權利要求1所述的微透鏡陣列,其特征在于:所述微透鏡單元的材質是耐高溫的熔石英材料。
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