[發(fā)明專利]玻片及其形成方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910049072.4 | 申請日： | 2009-04-09 |
| 公開（公告）號： | CN101859022A | 公開（公告）日： | 2010-10-13 |
| 發(fā)明（設計）人： | 林光遠 | 申請（專利權）人： | 上海中晶科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B21/34 | 分類號： | G02B21/34;C23C14/24;C23C14/34;C25D5/02 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 陳亮 |
| 地址： | 200233 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 及其 形成 方法 | ||
1.一種玻片，包含：
一基板；以及
一金屬圖案，設置于該基板。
2.如權利要求1所述的玻片，其特征在于，該金屬圖案包含多條金屬網(wǎng)格線，該些金屬網(wǎng)格線定義出多個檢體計算區(qū)。
3.如權利要求2所述的玻片，其特征在于，該檢體計算區(qū)為矩形。
4.如權利要求2所述的玻片，其特征在于，該金屬圖案還包含一定位圓周。
5.如權利要求1所述的玻片，其特征在于，該金屬圖案包含一金屬擋墻，該金屬擋墻具有至少一開口。
6.如權利要求1所述的玻片，其特征在于，該金屬圖案具有一0.3奈米至100微米的預定高度。
7.如權利要求1所述的玻片，其特征在于，該基板的材料為玻璃或壓克力。
8.如權利要求1所述的玻片，其特征在于，該基板為透明。
9.一種玻片形成方法，包含：
提供一基板；以及
設置一金屬圖案于該基板，其中該金屬圖案藉由真空蒸鍍、濺鍍、電鍍、或上述方式的組合所形成。
10.如權利要求9所述的玻片形成方法，其特征在于，該金屬圖案包含多條金屬網(wǎng)格線，該些金屬網(wǎng)格線定義出多個檢體計算區(qū)。
11.如權利要求10所述的玻片形成方法，其特征在于，該檢體計算區(qū)為矩形。
12.如權利要求10所述的玻片形成方法，其特征在于，該金屬圖案還包含一定位圓周。
13.如權利要求9所述的玻片形成方法，其特征在于，該金屬圖案包含一金屬擋墻，該金屬擋墻具有至少一開口。
14.如權利要求9所述的玻片形成方法，其特征在于，該金屬圖案具有一0.3奈米至100微米的預定高度。
15.如權利要求9所述的玻片形成方法，其特征在于，該基板的材料為玻璃或壓克力。
16.如權利要求9所述的玻片形成方法，其特征在于，該基板為透明。
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