[發明專利]一種照明裝置

無效

• 申請號: 200910049047.6
• 申請日: 2009-04-09
• 公開（公告）號: CN101586748A
• 公開（公告）日: 2009-11-25
• 發明（設計）人: 儲兆祥
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: F21S2/00
• 分類號: F21S2/00;F21V7/04;F21V19/00;F21Y101/02
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所
• 代理人: 屈 蘅;李時云

技術領域

本發明屬光刻設備領域，尤其涉及一種照明裝置。

背景技術

光刻機系統中用到很多的對準系統，如掩模精預對準和掩模CHUCK對準，其對準精度需要實現微米級別，通常采用的方法如圖1所示：直接使用LD激光器光源或LED光源照射到某個特定的標記上，在標記的正下方使用四象限探測器探測光強，在標記運動的過程中，四象限探測器探測出光強的變化，通過算法將光強的變化量轉換成標記的位置變化量。這種方法的缺點是照明均勻性差、光功率低，導致對準精度差。

有鑒于此，如何解決上述方法中照明均勻性差和光功率低的問題，是本領域的技術人員亟待解決的技術問題。

發明內容

有鑒于此，本發明的主要目的在于提高照明面實際使用光功率，從而提高對準精度要求。本發明的另一個目的在于提高對準系統中照明的均勻性，從而提高對準精度要求。

為解決上述技術問題，本發明采用了如下技術方案：

一種照明裝置，包括光源，還包括凹面反射鏡和凸面反射鏡，且所述凹面反射鏡和凸面反射鏡同軸，所述凹面反射鏡具有透光區和不透光區，所述光源至少為兩個且設于以所述光軸為中心軸的同一圓周上，所述至少兩個光源發出的光依次經所述凹面反射鏡的不透光區和凸面反射鏡反射后的出射光分別穿越凹面反射鏡的透光區并匯聚于照明面。將兩個以上光源同時收集并匯聚到一個指定大小的照明區域，可以提高照明面實際使用光功率，從而提高對準精度要求。

所述透光區位于凹面反射鏡的中央。

所述透光區為圓形。

所述光源均布于以光軸為中心軸的同一圓周上。由于多光源均布設置，因此，可以提高對準系統中照明的均勻性，從而進一步提高對準精度要求。

所述光源為LD激光光源或LED光源。

本發明的有益效果：

本發明由于采用多光源匯集到照明面上，因此，可以提高照明面實際使用光功率，從而提高對準精度要求。由于多光源均布設置，因此可以提高對準系統中照明的均勻性，進而提高對準區域范圍內的線性靈敏度，從而進一步提高對準精度要求。

附圖說明

圖1是現有的照明裝置的示意圖；

圖2是本發明照明裝置實施例1結構示意圖；

圖3是本發明照明裝置實施例1的側視示意圖；

圖4是本發明照明裝置實施例2的側視示意圖；

圖中：1-光源；2-凹面反射鏡，21-(凹面反射鏡的)透光區；22-(凹面反射鏡的)不透光區，3-凸面反射鏡；4-照明面。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明作清楚、完整地說明：

實施例1

請參閱圖2和圖3，這種照明裝置，包括光源1、凹面反射鏡2和凸面反射鏡3，且所述凹面反射鏡2和凸面反射鏡3同軸。所述凹面反射鏡2具有透光區21和不透光區22。所述光源1至少為兩個且設于以所述光軸為中心軸的同一圓周上。所述光源1為LD激光光源或LED光源，同時也可以使用其他照明的光源。本實施例中所述光源1為兩個LD光源1。所述凹面反射鏡2和凸面反射鏡3共同組成一個照明準直系統，根據實際對準系統的需求，調整照明準直系統的焦距，從而可以獲得凹面反射鏡2和凸面反射鏡3的曲率半徑。所述兩個LD光源1發出的光依次經所述凹面反射鏡2的不透光區22和凸面反射鏡3反射后分別穿越凹面反射鏡2的透光區21并匯聚于照明面4。由于采用多光源1并將這些光源匯集到同一照明面4上，可以提高照明面4的總光能，即提高照明面4的實際使用光功率，從而可以有效提高對準精度。

所述透光區21位于凹面反射鏡2的中央。所述透光區21為圓形。所述透光區21的直徑需要滿足足以使凸面反射鏡3的反射光穿越，即不能遮擋從凸面反射鏡3反射回來的光束。

可以，將所述兩個LD光源1均勻設置于以光軸為中心軸的同一圓周上，即使得每個光源1與光源1之間的圓周長相等。由于多光源1均勻設置，且將這些光源同時校直到同一個照明面4上，可以提高該對準系統中照明的均勻性，進而提高對準區域范圍內的線性靈敏度，從而提高對準精度。另外，也可以利用單個光源1相對位置的調節(傾斜、偏心或旋轉)來提高照明均勻性，進而提高對準精度要求。

實施例2

請參閱圖4，本實施例與實施例1的區別在于，光源1采用5個均布的LED光源。光源1越多，匯集到照明面4的光能越多，可以提高照明面4實際使用光功率。4個LED光源1均布同時準直到同一個照明面4上，可以提高照明均勻性，從而提高對準精度要求。