[發明專利]光刻技術中對準信號的處理方法

有效

• 申請號: 200910049046.1
• 申請日: 2009-04-09
• 公開（公告）號: CN101587306A
• 公開（公告）日: 2009-11-25
• 發明（設計）人: 李運鋒;王海江;趙新;陳延太;韋學志
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所
• 代理人: 屈 蘅;李時云

1.一種光刻技術中對準信號的處理方法，包括：

采集對準標記所產生的粗對準信號和精對準信號，分別對所述粗對準信號和精對準信號進行信號處理，獲得粗對準位置與精對準信號的峰值點，以確定對準位置；

其特征在于，所述粗對準信號處理包括信號分段歸納與峰值位置估計過程，用以確定擬合數據窗口；根據所述擬合數據窗口內的光強與位置采樣，使用粗對準擬合模型，以獲得模型參數；

所述確定擬合數據窗口的方法為：取粗對準信號峰值所在的分段和左右鄰近一段或幾段合并為擬合數據窗口。

2.如權利要求1所述的光刻技術中對準信號的處理方法，其特征在于，所述信號分段歸納過程包括將粗對準信號采集過程分為多段，進行后一段信號采集的同時對前一段的分段數據進行歸納處理。

3.如權利要求1所述的光刻技術中對準信號的處理方法，其特征在于，所述峰值位置估計過程包括采取三點取均值來判斷光強的最大值及所在的分段。

4.如權利要求1所述的光刻技術中對準信號的處理方法，其特征在于，所述模型參數的求解采用最小二乘法。

5.如權利要求1所述的光刻技術中對準信號的處理方法，其特征在于，所述擬合模型包含所述對準標記的全部周期成分，粗對準信號中包含的頻率成分與所述對準標記中包含的周期成分直接相關。

6.如權利要求1所述的光刻技術中對準信號的處理方法，其特征在于，所述粗對準信號包括工件臺的位置數據和粗對準光強信號，所述精對準信號包括工件臺的位置數據和精對準光強信號。

7.如權利要求1所述的光刻技術中對準信號的處理方法，其特征在于，確定所述精對準信號的峰值點的方法包括：

對采集的精對準信號進行化簡歸納；

精對準信號模型擬合；以及計算精對準信號的峰值點。

8.如權利要求7所述的光刻技術中對準信號的處理方法，其特征在于，所述精對準信號模型擬合利用最小二乘法。

9.如權利要求7所述的光刻技術中對準信號的處理方法，其特征在于，所述精對準信號模型擬合包括計算出模型中的波峰點，而每一個波峰點即為精對準信號的峰值點。

10.如權利要求1所述的光刻技術中對準信號的處理方法，其特征在于，以所述粗對準位置為基準，尋找所述精對準信號±1/2周期范圍內所對應的一個峰值位置，該位置即為最終確定的對準位置。