[發明專利]光學薄膜抗重復頻率激光損傷特性的評價方法

有效

• 申請號: 200910048695.X
• 申請日: 2009-04-01
• 公開（公告）號: CN101526461A
• 公開（公告）日: 2009-09-09
• 發明（設計）人: 張東;賀洪波;趙元安;夏燏
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G01N17/00
• 分類號: G01N17/00;G01N21/88;G01N21/49
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司
• 代理人: 張澤純

1.一種光學薄膜抗重復頻率激光損傷特性的評價方法，該方法是用具有一定能量密度的一串序列激光脈沖輻照待測薄膜樣品的不同測試點，確定并記錄每個測試點的損傷狀態，未損傷的定義為：沒有出現任何的損傷點和損傷破斑；弱損傷的定義為：只出現損傷點，且損傷點的數目少于3個；強損傷的定義為：出現不少于3個損傷點或出現損傷破斑；所述損傷點的直徑小于5微米，所述損傷破斑的直徑大于20微米；計算出該能量密度下的弱損傷幾率；多次改變激光的能量密度輻照待測薄膜樣品的不同測試點，確定并記錄各測試點的損傷狀態，分別計算出每個能量密度下的弱損傷幾率；以能量密度、弱損傷幾率分別為橫坐標和縱坐標畫圖，得到弱損傷幾率隨激光能量密度的變化曲線，用該曲線的損傷幾率峰值所對應的峰值能量密度來評價該光學薄膜抗重復頻率激光損傷的特性，該峰值能量密度越大，光學薄膜抗重復頻率激光損傷的特性就越好；該方法包括下列具體步驟：

①將具有一定能量密度和S個激光脈沖的一串序列脈沖輻照待測薄膜樣品的一個測試點，S為大于1的正整數，當該序列脈沖全部輻照完畢后，對該測試點的損傷狀態進行確定和記錄，損傷狀態包括未損傷、弱損傷和強損傷；

②改變測試點，用相同的脈沖序列輻照待測薄膜樣品的其他N-1個測試點，N＞15，共得到N個測試點的損傷狀態，按以下公式計算出該能量密度下的弱損傷幾率：

弱損傷幾率＝弱損傷測試點的個數/N；

③改變激光的能量密度，重復步驟①和②，得到其他能量密度下的弱損傷幾率；

④以能量密度、弱損傷幾率分別為橫坐標、縱坐標畫圖，得到弱損?傷幾率隨激光能量密度的變化曲線，該曲線的損傷幾率峰值所對應的峰值能量密度，即表征該光學薄膜抗重復頻率激光損傷的特性：該峰值能量密度越高，光學薄膜抗重復頻率激光損傷的特性就越好。

2.根據權利要求1所述的評價方法，其特征在于所述的S≥5，所述的N≥20。

3.根據權利要求1所述的評價方法，其特征在于所述的S和N對于不同的測試樣品應取相同數值，測試結果之間才具有較好的比較意義。?