[發(fā)明專利]工件臺位置水平誤差測量及校正方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910047581.3
• 申請日: 2009-03-13
• 公開（公告）號: CN101510058A
• 公開（公告）日: 2009-08-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林彬
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所
• 代理人: 屈 蘅;李時(shí)云

1.一種測量工件臺位置的水平誤差并對其進(jìn)行校正的方法，適用于一光刻機(jī)系統(tǒng)，光刻機(jī)系統(tǒng)包括：照明光源系統(tǒng)、投影物鏡成像系統(tǒng)、用于支撐并精密定位掩模板的掩模臺、用于支撐并精密定位硅片的工件臺以及干涉儀，上述測量工件臺位置的水平誤差并對其進(jìn)行校正的方法的特征在于，包括下列步驟：

上述光刻機(jī)系統(tǒng)在上述硅片上曝光至少一個(gè)場的標(biāo)記，每個(gè)場中分別包含將上述工件臺設(shè)置成不同的旋轉(zhuǎn)或者傾斜角度的情況曝光得到的標(biāo)記；

讀取上述標(biāo)記的位置；

根據(jù)測得的上述標(biāo)記的位置，計(jì)算工件臺由于旋轉(zhuǎn)和傾斜引起的工件臺的位置偏差；以及

依據(jù)上述標(biāo)記位置偏差獲得計(jì)算得到至少一個(gè)用于校正干涉儀誤差的參數(shù)，從而對工件臺的水平位置誤差進(jìn)行校正。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量工件臺位置的水平誤差并對其進(jìn)行校正的方法，其特征在于，曝光的上述標(biāo)記為可以使用測量系統(tǒng)測得的并確定其位置的對準(zhǔn)標(biāo)記。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測量工件臺位置的水平誤差并對其進(jìn)行校正的方法，其特征在于，其中上述對準(zhǔn)標(biāo)記為離軸對準(zhǔn)標(biāo)記。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測量工件臺位置的水平誤差并對其進(jìn)行校正的方法，其特征在于，其中上述對準(zhǔn)標(biāo)記為套刻標(biāo)記。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測量工件臺位置的水平誤差并對其進(jìn)行校正的方法，其特征在于，上述讀取上述標(biāo)記的上述位置為讀取上述標(biāo)記在上述工件臺的旋轉(zhuǎn)角度或傾斜角度不為零時(shí)的位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的測量工件臺位置的水平誤差并對其進(jìn)行校正的方法，其特征在于，上述對準(zhǔn)標(biāo)記的參考位置為上述對準(zhǔn)標(biāo)記在上述工件臺的旋轉(zhuǎn)角度或傾斜角度為零時(shí)的位置。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量工件臺位置的水平誤差并對其進(jìn)行校正的方法，其特征在于，曝光各個(gè)標(biāo)記時(shí)，將工件臺設(shè)置成多種不同的旋轉(zhuǎn)和傾斜姿態(tài)，以觀測設(shè)置成這些姿態(tài)時(shí)，這些旋轉(zhuǎn)和傾斜設(shè)置值對工件臺水平位置的影響。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量工件臺位置的水平誤差并對其進(jìn)行校正的方法，其特征在于，曝光時(shí)刻工件臺的旋轉(zhuǎn)和傾斜角度(Rx，Ry，Rz)這三個(gè)值中，其中一個(gè)值為非零時(shí)，其它兩個(gè)值為零。