[發明專利]用于微光刻的照明光學系統有效
| 申請號： | 200910046061.0 | 申請日： | 2009-02-10 |
| 公開（公告）號： | CN101477317A | 公開（公告）日： | 2009-07-08 |
| 發明（設計）人： | 張祥翔 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所 | 代理人： | 屈 蘅;李時云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 微光 照明 光學系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于微光刻的照明光學系統，包括：
光源；
石英棒，位于所述光源的光路上，所述光源發出的光經由所述石英棒的入射端進入并經由出射端射出；
中繼透鏡，位于所述石英棒的出射端的射出光路上；
照明場，位于所述中繼透鏡的出光光路上；其特征在于所述石英棒的入射端和出射端具有不同的口徑；
其中，所述中繼透鏡為變焦鏡組，包括第一變焦透鏡和第二變焦透鏡；
還包括，電機帶動所述石英棒進行180度旋轉；
采用變焦的中繼透鏡和石英棒旋轉共同實現對數值孔徑、曝光視場和相干因子的改變。
2.根據權利要求1所述的用于微光刻的照明光學系統，其特征在于所述電機為步進電機。
3.根據權利要求1所述的用于微光刻的照明光學系統，其特征在于所述光源為高壓汞燈。
4.根據權利要求1所述的用于微光刻的照明光學系統，其特征在于所述照明場為掩模面。
5.根據權利要求1所述的用于微光刻的照明光學系統，其特征在于該系統包括聚光單元，位于所述光源和石英棒之間的光路上。
6.根據權利要求5所述的用于微光刻的照明光學系統，其特征在于所述聚光單元為變焦鏡組。
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