[發(fā)明專利]光刻裝置和方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910045979.3
• 申請日: 2009-01-19
• 公開（公告）號: CN101782721A
• 公開（公告）日: 2010-07-21
• 發(fā)明（設計）人: 劉慶煒
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B27/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 李麗

1.一種光刻裝置，包括：照明單元，用于提供原始入射光線；掩模單元，用于提供轉移圖案，所述原始入射光線在所述轉移圖案上發(fā)生衍射，產生包含零級光和一級光的多級衍射光；透鏡，用于聚焦所述多級衍射光；光闌，用于與所述透鏡相配合，在第一平面形成關于所述轉移圖案的像；其特征在于，在所述透鏡和所述光闌之間，包括：

調整單元，用于對從所述透鏡出射的多級衍射光進行光路調整，使進入所述光闌成像的光至少包括零級光和一級光。

2.如權利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，所述調整單元包括與所述透鏡同光軸的直角棱鏡。

3.如權利要求2所述的光刻裝置，其特征在于，所述對從透鏡出射的多級衍射光進行光路調整包括：通過直角棱鏡，使所述多級衍射光線產生了聚斂。

4.如權利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，所述照明單元為強UV光源。

5.一種光刻方法，包括：提供原始入射光線；使所述原始入射光線在所述轉移圖案上發(fā)生衍射，獲得包含零級光和一級光的多級衍射光；聚焦所述多級衍射光；所述聚焦的光線在第一平面成像；其特征在于，在所述聚焦的光線在第一平面成像之前，還包括：對所述聚焦的多級衍射光進行光路調整，使進行成像的光線至少包括一級光。

6.如權利要求5所述的光刻方法，其特征在于，所述對所述聚焦的多級衍射光進行光路調整包括：使所述多級衍射光進行聚斂。

7.如權利要求6所述的光刻方法，其特征在于，所述使多級衍射光進行聚斂包括：使一級光進一步聚焦。