[發(fā)明專利]一種壓印模板

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910044950.3
• 申請日: 2009-01-06
• 公開（公告）號: CN101770165A
• 公開（公告）日: 2010-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉彥伯;鈕曉鳴;宋志棠;閔國全;周偉民;張靜;萬永中;張挺;李小麗;張劍平;施利毅;劉波;封松林
• 申請（專利權(quán)）人: 上海市納米科技與產(chǎn)業(yè)發(fā)展促進中心;中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種廉價的壓印模板，其特征是：在硬質(zhì)基底表面覆蓋圖形化層，先將圖形化層圖形化，然后對圖形化材料表面修飾處理，之后直接作壓印工藝中的壓印模板。

2.按照權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)基底表面覆蓋圖形化材料層，其特征是：

(1)所述硬質(zhì)基底材料為石英玻璃或其他玻璃、氮化鎵或其他氮化物、藍寶石或其他寶石、硅及其化合物、砷化物、陶瓷、鎢或其他金屬及其化合物中的一種或多種組合。硬質(zhì)材料厚度在1μm～10mm之間。

(2)所述圖形化材料層是下列材料的一種或多種組合：鈦、金、鎢、鉻、鎳、鋁或其他金屬及其化合物；硅及其化合物；氮化物、砷化物。圖形化材料層厚度在1nm～2mm之間。

(3)所述硬質(zhì)基底材料和圖形化材料層之間有黏合層，是鈦、鉻、或其他金屬及其化合物的一種或多種組合，厚度在0～500μm之間。

3.按照權(quán)利要求1所述將圖形化材料層圖形化，其特征是：圖形化后圖案特征尺寸在1nm～10mm之間。

4.按照權(quán)利要求1所述對圖形化表面修飾處理，其特征是：為了改變圖形化表面材料及基底材料的物理化學(xué)性能或降低其表面能，保證壓印復(fù)型精度。

5.按照權(quán)利要求1所述直接作壓印工藝中的壓印模板，其特征是：將上述制作和修飾獲得的模板直接用于壓印工藝，在不同襯底表面壓印出復(fù)型結(jié)構(gòu)。所述壓印工藝包括冷壓印(含紫外壓印)、熱壓印、微接觸印刷。所述襯底材料為硅或其化合物、玻璃、氮化鎵或其他氮化物、藍寶石或其他寶石、砷化物、鎢或其他金屬或金屬化合物中的一種或多種組合，所述襯底材料表面覆蓋壓印膠層厚為0～10μm，所述襯底和壓印膠層之間增加黏附層，黏附層厚為0～1μm。

6.按照權(quán)利要求1所述的模板，可以直接用于軟模復(fù)制的母模，軟模材料包括下列一種或多種組合：PDMS、PMMA及其改性化合物；高分子聚合物。