[發明專利]一種壓印模板

無效

• 申請號: 200910044950.3
• 申請日: 2009-01-06
• 公開（公告）號: CN101770165A
• 公開（公告）日: 2010-07-07
• 發明（設計）人: 劉彥伯;鈕曉鳴;宋志棠;閔國全;周偉民;張靜;萬永中;張挺;李小麗;張劍平;施利毅;劉波;封松林
• 申請（專利權）人: 上海市納米科技與產業發展促進中心;中國科學院上海微系統與信息技術研究所
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種廉價的壓印模板，其特征是：在硬質基底表面覆蓋圖形化層，先將圖形化層圖形化，然后對圖形化材料表面修飾處理，之后直接作壓印工藝中的壓印模板。

2.按照權利要求1所述的硬質基底表面覆蓋圖形化材料層，其特征是：

(1)所述硬質基底材料為石英玻璃或其他玻璃、氮化鎵或其他氮化物、藍寶石或其他寶石、硅及其化合物、砷化物、陶瓷、鎢或其他金屬及其化合物中的一種或多種組合。硬質材料厚度在1μm～10mm之間。

(2)所述圖形化材料層是下列材料的一種或多種組合：鈦、金、鎢、鉻、鎳、鋁或其他金屬及其化合物；硅及其化合物；氮化物、砷化物。圖形化材料層厚度在1nm～2mm之間。

(3)所述硬質基底材料和圖形化材料層之間有黏合層，是鈦、鉻、或其他金屬及其化合物的一種或多種組合，厚度在0～500μm之間。

3.按照權利要求1所述將圖形化材料層圖形化，其特征是：圖形化后圖案特征尺寸在1nm～10mm之間。

4.按照權利要求1所述對圖形化表面修飾處理，其特征是：為了改變圖形化表面材料及基底材料的物理化學性能或降低其表面能，保證壓印復型精度。

5.按照權利要求1所述直接作壓印工藝中的壓印模板，其特征是：將上述制作和修飾獲得的模板直接用于壓印工藝，在不同襯底表面壓印出復型結構。所述壓印工藝包括冷壓印(含紫外壓印)、熱壓印、微接觸印刷。所述襯底材料為硅或其化合物、玻璃、氮化鎵或其他氮化物、藍寶石或其他寶石、砷化物、鎢或其他金屬或金屬化合物中的一種或多種組合，所述襯底材料表面覆蓋壓印膠層厚為0～10μm，所述襯底和壓印膠層之間增加黏附層，黏附層厚為0～1μm。

6.按照權利要求1所述的模板，可以直接用于軟模復制的母模，軟模材料包括下列一種或多種組合：PDMS、PMMA及其改性化合物；高分子聚合物。