[發(fā)明專(zhuān)利]超疏水性膜表面的低溫制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910040508.3
• 申請(qǐng)日: 2009-06-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101608109A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-12-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳云影
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 韓山師范學(xué)院
• 主分類(lèi)號(hào): C09K3/18
• 分類(lèi)號(hào): C09K3/18;B01J31/04;D21H25/02;D21H21/16;C09C3/12
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.超疏水性膜表面的低溫制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)將基材表面在10～60％濕度，10～25℃條件下進(jìn)行紫外光清潔 和活化處理；

(2)將活化后的基材置于霧化狀催化劑環(huán)境下，使催化劑附著于基 材表面；

(3)將吸附有催化劑的基材置于含有疏水性烷基的硅氧烷分子化合 物的氣化或霧化狀態(tài)下，于10～80℃下進(jìn)行反應(yīng)；

上述催化劑是乙酸、酒石酸或草酸。

2.權(quán)利要求1所述方法，其特征在于，步驟(1)所述紫外光是波長(zhǎng) 為390～172nm的紫外光。

3.權(quán)利要求1所述方法，其特征在于，步驟(2)反應(yīng)時(shí)間為20～60 秒。

4.權(quán)利要求1所述方法，其特征在于，步驟(3)反應(yīng)時(shí)間為10～180 分鐘。

5.權(quán)利要求1所述方法，其特征在于，所述基材是有機(jī)材料或無(wú) 機(jī)氧化物。

6.權(quán)利要求1所述方法，其特征在于，所述含有疏水性烷基的硅 氧烷分子化合物是十六烷基三甲氧基硅烷。