[發(fā)明專利]射出成型方法、模組及成型物無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910037526.6 | 申請日: | 2009-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN101823316A | 公開(公告)日: | 2010-09-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 簡明輝 | 申請(專利權(quán))人: | 簡明輝 |
| 主分類號: | B29C45/26 | 分類號: | B29C45/26;B29C45/34;B29C45/16 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 曾旻輝 |
| 地址: | 中國臺灣基*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 射出 成型 方法 模組 | ||
1.一種射出成型方法,其特征在于,該方法包含下列步驟:
a)以至少兩個模具構(gòu)成形成有至少一個模穴的模組,其中該等模具中的至少一個,包括一個基礎(chǔ)部及一個可相對該基礎(chǔ)部朝向深入該模穴方向移動的加壓部;
b)注入熔融模料至該模穴;
c)待該模料注入該模穴達(dá)一個預(yù)定程度時,移動該加壓部,使該模穴中對應(yīng)該加壓部的模料被擠壓至密度高于對應(yīng)該基礎(chǔ)部的模料達(dá)一個預(yù)定密度;
d)等候該模穴中的該模料冷卻定型;及
e)將該等模具分離并取出該定型成品。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,其中該模組更形成有一個排氣孔,且該步驟b)更包括由該排氣孔抽取模穴中氣體的次步驟b1)。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,其中該步驟c)更包括下列次步驟:
c1)以熔融模料填滿該模穴達(dá)成該預(yù)定程度;及
c2)移動該加壓部。
4.如權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,其中該步驟d)更包括下列次步驟;
d1)于該次步驟c1)以熔融模料填滿該模穴后,開始冷卻該模組;
d2)持續(xù)冷卻該模組至該模穴中的該等模料定型。
5.如權(quán)利要求1、2、3或4所述的方法,其特征在于,更包含在該步驟b)前,先將一片披覆膜置入該模穴中的步驟f)。
6.一種射出成型模組,其特征在于,該模組包含至少兩個共同形成有至少一個模穴的模具;其中該等模具中的至少一個,包括一個基礎(chǔ)部及至少一個可相對該基礎(chǔ)部朝向深入該模穴方向移動的加壓部,致將該模穴至少區(qū)分為至少一個對應(yīng)該至少一個加壓部的加壓區(qū)域、一個對應(yīng)該基礎(chǔ)部的基礎(chǔ)區(qū)域、及一個介于該至少一個加壓區(qū)域與該基礎(chǔ)區(qū)域間的漸變區(qū)域。
7.如權(quán)利要求6所述的模組,其特征在于,其中該等模具包括一個具有至少一個加壓部及一個基礎(chǔ)部的公模,及一個對應(yīng)該公模的母模。
8.一種射出成型物,其特征在于,該成型物包含一片包括至少一個高密度區(qū)、一個厚度不小于該至少一個高密度區(qū)且密度低于該高密度區(qū)的低密度區(qū)、及一個介于該至少一個高密度區(qū)及該低密度區(qū)之間的密度漸變區(qū)的單一材質(zhì)基板。
9.如權(quán)利要求8所述的成型物,其特征在于,更包含一片披覆于該基板上、且面向該基板側(cè)印有圖案的披覆膜。
10.如權(quán)利要求8所述的成型物,其特征在于,其中該高密度區(qū)具有一個致使可見光可部分通透的預(yù)定厚度。
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