[發明專利]盤磨機恒量定壓打漿方法及其裝置無效
| 申請號: | 200910036721.7 | 申請日: | 2009-01-16 |
| 公開(公告)號: | CN101476258A | 公開(公告)日: | 2009-07-08 |
| 發明(設計)人: | 胡慶喜;李友明;陳中豪 | 申請(專利權)人: | 華南理工大學 |
| 主分類號: | D21D1/30 | 分類號: | D21D1/30 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利代理有限公司 | 代理人: | 何淑珍 |
| 地址: | 510640廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 盤磨機 恒量 打漿 方法 及其 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及盤磨機打漿技術,特別涉及一種盤磨機恒量定壓打漿方法及其裝置。
背景技術
在造紙工藝過程中,打漿是關鍵的一個環節,素有“七分打漿,三分抄紙”之稱。按打漿濃度區分:現有的盤磨機打漿技術有低濃打漿,中、高濃打漿;按打漿方式區分:現有的盤磨機打漿技術有恒壓打漿和定距打漿。低濃打漿主要依靠磨片對纖維的切斷和磨擦打漿,以切斷纖維為主,分絲帚化為輔,適合于長纖維原木漿的打漿;中、高濃打漿主要依靠纖維與纖維內磨擦使纖維分絲帚化,切斷少,適合于短纖維草類漿,二次纖維廢紙漿的打漿。無論何種形式的打漿最終目的是為了獲的良好的纖維形態,以利于打漿后紙漿的流送與紙頁的形成。現有的低濃打漿方式為定間距打漿,依靠調節磨片之間的間隙來調節打漿作用的強度和質量;而現有的中、高濃打漿方式為恒壓打漿,在打漿過程中,磨區壓力依設定值保持恒定,打漿強度由磨區壓力的大小來控制。兩種打漿方法均未考慮離心漿泵供漿流量與壓力變化對盤磨機打漿質量的影響,在公開專利《盤磨機免動力供漿中濃打漿方法及裝置》中也存在隨打漿進行,漿塔(池)漿位下降影響盤磨機進口流量和壓力,且在盤磨機抽吸作用下,由與漿水流速差,漿塔(池)內中濃漿料濃度逐漸增大,造成磨漿濃度不均,隨漿塔(池)漿位下降,盤磨機進漿壓力下降,造成實際打漿壓力不穩,影響打漿質量。因此,控制盤磨機進漿量穩定、壓力穩定,盤磨機磨區壓力穩定,實現三個穩定的統一,對確保盤磨機打漿質量的穩定與節約能源有十分重要的意義。
發明內容
本發明的目的在于克服現有打漿技術的存在的上述缺點,提供一種適用于低、中、高濃盤磨機打漿質量穩定的盤磨機恒量定壓打漿方法及其。本發明的另一目的在于提供一種實現上述方法的盤磨機恒量定壓打漿裝置。
本發明的技術目的通過下述技術方案實現:一種盤磨機恒量定壓打漿方法,利用穩流穩壓器的恒量恒壓作用保持供漿泵依設定流量和壓力值將漿料供送到盤磨機的磨區,所述供漿泵為ACP型離心漿泵或MCP型中濃漿泵。
上述方法在打漿過程中,通過穩流穩壓器保持離心漿泵依設定值恒量恒壓供漿,同時依不同漿種,通過調節盤磨機液壓系統調壓閥的壓力設定打漿壓力來實現。
上述盤磨機恒量定壓打漿方法中,供漿泵的供漿量大于盤磨機所要求的磨漿量。
上述盤磨機恒量定壓打漿方法中,所述穩流穩壓器包括溢流式穩流穩壓器和氣墊式穩流穩壓器,溢流式穩流穩壓器的溢流漿口有回流管與立式漿池頂部連接,而氣墊式穩流穩壓器則無回流管與立式漿池連接。
一種盤磨機恒量定壓打漿裝置,包括立式漿池、供漿泵、穩流穩壓器和液壓盤磨機,所述立式漿池出漿口與供漿泵進口連接,供漿泵出口由供漿管與穩流穩壓器進口連接,穩流穩壓器出口由供漿管與盤磨機進口連接。
上述盤磨機恒量定壓打漿裝置中,立式漿池為圓形或方形;漿池底部與地面成10度的坡度,與漿池壁面成40度的坡度,攪拌器軸心線與立式漿池出漿口成30度角。
上述盤磨機恒量定壓打漿裝置中,所述ACP型離心漿泵的葉輪為半開式,葉輪前蓋板固定在泵殼上,該半開式葉輪與其前蓋板的間隙可調;所述MCP型中濃漿泵的葉輪進口方向的投影形線為對數螺旋線,其葉輪流道為開式的單流道。
上述盤磨機恒量定壓打漿裝置中,所述溢流式穩流穩壓器內的漿位高于盤磨機進口位置,根據盤磨機設定進漿壓力值不同調節其安裝位置高度;所述氣墊式穩流穩壓器根據盤磨機設定進漿壓力值不同調節氣墊壓力。
上述盤磨機恒量定壓打漿裝置中,所述液壓盤磨機包括液壓單盤磨和液壓雙盤磨,液壓單盤磨與液壓雙盤磨的進退刀行程由液壓系統控制,打漿壓力由液壓控制系統的調壓閥調節。
本發明相對于現有技術有如下優點和效果:本發明可以實現盤磨機的恒量定壓打漿,相對于現有的中濃液壓盤磨機中濃恒壓打漿或雙盤磨低濃的定間距打漿,具有打漿功率恒定,高效節能,打漿量與質穩定,實現了打漿方法的質與量的統一。采用本盤磨機恒量定壓打漿方法與裝置可以實現打漿過程流量和壓力穩定,盤磨機功率(能耗)恒定,節省能耗,打漿質量穩定。采用本盤磨機恒量定壓打漿方法與裝置避免了現有低濃定間距打漿與中、高濃恒壓打漿適應性窄,打漿流量不均,供漿壓力變化造成實際打漿壓力不穩,打漿質量不均的缺點,具有較寬的適應性,可應用于濃度3%~10%低、中、高等不同濃度的打漿,通過設定不同的打漿流量和壓力,更換不同磨片對各種纖維的打漿都有質量穩定均勻的效果。
附圖說明
圖1是盤磨機本盤磨機溢流式恒量定壓打漿裝置的結構示意圖
圖2是盤磨機本盤磨機氣墊式恒量定壓打漿裝置的結構示意圖
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華南理工大學,未經華南理工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910036721.7/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





