[發明專利]能防止面板黃化的蔭罩式等離子體顯示面板前板金屬電極的制作方法

無效

• 申請號: 200910033652.4
• 申請日: 2009-06-25
• 公開（公告）號: CN101593650A
• 公開（公告）日: 2009-12-02
• 發明（設計）人: 林潔;張雄;朱立鋒;樊兆雯;林青園
• 申請（專利權）人: 南京華顯高科有限公司
• 主分類號: H01J9/02
• 分類號: H01J9/02
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責任公司
• 代理人: 夏 平;瞿網蘭

技術領域

本發明涉及一種等離子體顯示板前玻璃基板電極的制作方法，尤其是一種等離子顯示器前板金屬電極的制作技術，特別是一種利用薄膜光刻技術和厚膜技術相結合的蔭罩式等離子體顯示板前襯底玻璃基板的金屬電極制作方法，具體地說是一種能防止面板黃化的蔭罩式等離子體顯示面板前板金屬電極的制作方法。

背景技術

絲網印刷法、光敏銀漿法和薄膜光刻法是比較常用的電極制備方法。目前等離子體顯示板(PDP)前板金屬電極的制作用的比較多的是厚膜光刻法，該方法也是蔭罩式等離子體顯示板前板上金屬電極制作的主要方法。采用厚膜法制作前板金屬電極的過程是：在玻璃基板上涂覆一層黑色玻璃漿料，烘干后在其表面涂覆白色光敏銀漿并烘干，然后通過曝光、顯影等工藝形成電極圖形，最后采用高溫燒成使黑白兩種漿料中的樹脂等有機物分解，形成牢固附著在前玻璃基板上的金屬電極。但是這種方法制備電極需要把漿料印刷給玻璃基板的整面，而最終形成的圖形的漿料只有約30％，而高分辨的線條通常需要用薄膜方法，分辨率的限制是決定是否使用厚膜技術的最大的因素；薄膜光刻法是采用真空成膜裝置成膜，上面用光刻膠形成保護膜，然后經過曝光、顯影、腐蝕等一系列工藝技術，形成圖形，可以獲得整板均勻性好、精度高的電極線條(幾微米寬)，但是光刻設備昂貴，制造工藝復雜，成本很高，材料浪費嚴重，且容易造成污染。

將薄膜光刻技術和厚膜技術相結合，不僅可以做到比較細的電極，且成本遠低于薄膜法，同時由于不需要整板印刷漿料，可以減少不必要的資源的浪費和制造費用的增加，但高溫燒結會導致電極材料中的銀離子擴散進入玻璃基板中與玻璃中的Na、K等元素發生置換反應形成銀膠體，造成電極周圍發黃即面板黃化，從而影響了等離子顯示板的亮度和對比度，使其畫質降低。?因此，現有的電極制備方法不能達到高質量、高生產效率、低損耗、低污染、無卷邊現象的要求，不能滿足現有的生產需要。

發明內容

本發明的目的是針對現有等離子體顯示面板的前板金屬電極制作方法存在的資源浪費大，生產效率不高，面板黃化，畫面質量低，損耗大的問題，提出的一種采用不含金屬銀Ag的黑色漿料，以梯形的形狀形成在玻璃基板上，然后在黑色漿料上形成導電銀漿，可有效阻止導電銀漿中的銀顆粒向下擴散進入玻璃基板發生黃化反應的能防止面板黃化的蔭罩式等離子體顯示面板前板金屬電極的制作方法。

本發明的技術方案是：

一種能防止面板黃化的蔭罩式等離子體顯示面板前板金屬電極的制作方法，其特征是它兼具厚膜光刻和薄膜光刻方法的特點，并通過在玻璃基板13上先形成不含銀的黑色漿料層，再在黑色漿料層上形成導電銀漿的方法制備電極以防止導電銀漿中的銀離子與玻璃基板中的Na、K金屬離子發生置換反應造成面板黃化現象的發生。

本發明的能防止面板黃化的蔭罩式等離子體顯示面板前板金屬電極的制作方法的具體步驟包括：

a.清洗玻璃基板13，在玻璃基板13表面制作含PVA(即聚乙烯醇，下同)、且能在燒成過程中分解掉的感光層14，控制所述感光層14的厚度為10-30μm；

b.用帶有電極圖案的掩膜板15平鋪在感光層14的表面，再用紫外線光16照射帶有電極圖案的掩膜板15和感光層14進行曝光，使感光層14能夠被帶線條圖形的掩膜板15防護的光的衍射和折射現象形成上大下小的反梯形的感光層17和未固化的上小下大的正梯形的感光層18；

c.揭去掩膜板15，將曝光后的玻璃基板13放入顯影設備中進行顯影，用顯影液19噴淋上述曝光過的玻璃基板13，去除未固化的感光層18，形成帶有所需圖形的固化的感光層17的玻璃基板13；

d.在玻璃基板13被除去的未固化的感光層18的相應位置處填充不含銀的黑色漿料20，控制黑色漿料20的厚度為5-15μm，并使黑色漿料20的厚度小于所述感光層17的厚度，然后烘干，去除黑色漿料中的部分溶劑，色漿料20固著形成在玻璃基板13上的感光層17之間的間隙中；

e.在烘干后的黑色漿料20的表面填充導電銀漿21直至導電銀漿21的厚度與最終成形電極22的厚度相同為止，烘干去除導電銀漿21中的部分溶劑，使導電銀漿21固著形成在烘干后的黑色漿料上20；

f.在燒成爐中通過低溫燒結，保溫，去除上述固化的感光層17，徹底去除黑色漿料20和導電銀漿21中的溶劑，使黑色漿料20和導電銀漿21牢固的附著在玻璃基板13上，得到最終成形的電極22。

所述的黑色漿料20的烘干溫度為80-130℃，烘干時間為15-30min。

所述的導電銀漿21層的填充厚度為5-15μm。