[發(fā)明專利]一種自吸氧化脫硫工藝及其裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910032614.7 | 申請日： | 2009-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN101596399A | 公開（公告）日： | 2009-12-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 朱春陽;王家石;崔平;程曉輝 | 申請（專利權(quán)）人： | 安徽工業(yè)大學;朱春陽 |
| 主分類號： | B01D53/78 | 分類號： | B01D53/78;B01D53/96;B01D53/48;B01D53/52;C10K1/08 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) | 代理人： | 成立珍 |
| 地址： | 243002*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 吸氧 脫硫 工藝 及其 裝置 | ||
1.一種自吸氧化脫硫工藝，是將含硫氣體送入脫硫塔后，硫化物被塔內(nèi)脫硫液吸 收，脫硫后的氣體從塔頂排出，脫硫富液從塔底排出氧化再生后循環(huán)使用，其特征在于： 所述的脫硫富液采用雙槽聯(lián)體自吸氧化再生槽氧化再生，上槽的脫硫富液從槽頂進，下 槽的脫硫富液從槽側(cè)進，下槽氧化用過的空氣供上槽再利用，氧化再生后獲得硫泡沫和 脫硫貧液，硫泡沫從下槽分離，脫硫貧液直接循環(huán)使用。
2.一種使用權(quán)利要求1所述的自吸氧化脫硫工藝而專門設(shè)計的裝置，包括脫硫塔 (1)，其特征在于：在脫硫塔(1)的頂上設(shè)有雙槽聯(lián)體的自吸氧化再生槽，包括上槽 (6)和下槽(7)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的使用權(quán)利要求1所述的自吸氧化脫硫工藝而專門設(shè)計的 裝置，其特征在于：再生槽液位控制調(diào)節(jié)移入雙槽聯(lián)體的自吸氧化再生槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的使用權(quán)利要求1所述的自吸氧化脫硫工藝而專門設(shè)計的 裝置，其特征在于：脫硫塔入塔的脫硫液溢流管放置在塔內(nèi)，且直接接入矩齒形布液槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或4所述的使用權(quán)利要求1所述的自吸氧化脫硫工藝而專門設(shè) 計的裝置，其特征在于：矩齒形布液槽設(shè)置在脫硫塔(1)的頂部和脫硫塔(1)內(nèi)的填 料之間。
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