[發明專利]真空電容器的電極環安裝盤的結構改良無效
| 申請號： | 200910032440.4 | 申請日： | 2009-06-16 |
| 公開（公告）號： | CN101916651A | 公開（公告）日： | 2010-12-15 |
| 發明（設計）人： | 方濤;黃浩;黃濤河;張立云;李雅彬;蔣慶;王淮飛 | 申請（專利權）人： | 昆山國力真空電器有限公司 |
| 主分類號： | H01G2/00 | 分類號： | H01G2/00;H01G5/01;H01G5/011 |
| 代理公司： | 昆山四方專利事務所 32212 | 代理人： | 盛建德 |
| 地址： | 215301 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空 電容器 電極 安裝盤 結構 改良 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空電容器的電極環安裝盤的結構改良，所述電極環安裝盤的安裝面上開設有若干與該電極環安裝盤同中心軸的若干固定環槽(1)，若干電極環對應固定套設焊接在所述若干固定環槽的槽內圈側壁(10)上，其特征在于：所述電極環安裝盤的安裝面上開設有至少一道清洗槽(2)，所述清洗槽連通各固定環槽且所述清洗槽至少貫通電極環安裝盤的外圈側壁(12)。
2.根據權利要求1所述的真空電容器的電極環安裝盤的結構改良，其特征在于：所述電極環安裝盤為真空電容器的靜子盤(3)。
3.根據權利要求1所述的真空電容器的電極環安裝盤的結構改良，其特征在于：所述電極環安裝盤為真空電容器的動子盤(4)。
4.根據權利要求1所述的真空電容器的電極環安裝盤的結構改良，其特征在于：所述清洗槽貫通電極環安裝盤的內圈側壁(11)和外圈側壁(12)。
5.根據權利要求1或4所述的真空電容器的電極環安裝盤的結構改良，其特征在于：所述電極環安裝盤的安裝面上均勻間隔開設有四道清洗槽。
6.根據權利要求1或4所述的真空電容器的電極環安裝盤的結構改良，其特征在于：所述清洗槽為直線形槽。
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