[發(fā)明專利]一種氮化鎵基外延膜的激光剝離方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910031266.1 | 申請日: | 2009-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN101555627A | 公開(公告)日: | 2009-10-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王懷兵;孔俊杰;楊輝;梁秉文 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州納晶光電有限公司 |
| 主分類號: | C30B29/38 | 分類號: | C30B29/38;C30B29/40;C30B25/02;C30B33/00 |
| 代理公司: | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 陶海鋒 |
| 地址: | 215125江蘇省蘇州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氮化 外延 激光 剝離 方法 | ||
1.一種氮化鎵基外延膜的激光剝離方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)在藍(lán)寶石襯底上生長氮化鎵基外延膜,制作劃片槽,分隔形成氮化 鎵基單元器件,然后將所述劃片槽劃穿至藍(lán)寶石襯底表面,在劃片槽中填充 保護(hù)材料;
(2)以金屬層作為中間層,將所述氮化鎵基外延膜連接于高導(dǎo)熱導(dǎo)電襯 底上;所述金屬層為Au層或AuSn合金層;
(3)對激光光斑進(jìn)行整形,將投影在藍(lán)寶石襯底和氮化鎵基外延膜界面 處的光斑處理為圖形化光斑陣列;所述圖形化光斑陣列的光斑直徑為5~200 μm,周期為10~200μm,且其光斑能量為平頂、高斯或近高斯分布;
(4)將上述圖形化光斑陣列透過藍(lán)寶石照射到藍(lán)寶石襯底和氮化鎵界面 處,使界面處的氮化鎵發(fā)生分解,實(shí)現(xiàn)氮化鎵基外延膜與藍(lán)寶石襯底分離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮化鎵基外延膜的激光剝離方法,其特征在 于:所述步驟(1)中的保護(hù)材料為聚酰亞胺、二氧化硅、環(huán)氧樹脂或絕緣硅膠。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮化鎵基外延膜的激光剝離方法,其特征在 于:所述步驟(2)中的高導(dǎo)熱導(dǎo)電襯底為Si或Cu襯底。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮化鎵基外延膜的激光剝離方法,其特征在 于:所述步驟(3)中的圖形化光斑陣列的光斑形狀為矩形或圓形。
5.一種氮化鎵基外延膜的激光剝離方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)在藍(lán)寶石襯底上生長氮化鎵基外延膜;
(2)以膠或者石蠟作為中間層,將上述氮化鎵基外延膜連接于玻璃或者 Si襯底上;所述膠為硅膠或環(huán)氧樹脂;
(3)對激光光斑進(jìn)行整形,將投影在藍(lán)寶石襯底和氮化鎵基外延膜界面 處的光斑處理為圖形化光斑陣列;所述圖形化光斑陣列的光斑直徑為5~200 μm,周期為10~200μm,且其光斑能量為平頂、高斯或近高斯分布;
(4)將上述圖形化光斑陣列透過藍(lán)寶石照射到藍(lán)寶石襯底和氮化鎵界面 處,使界面處的氮化鎵發(fā)生分解,實(shí)現(xiàn)氮化鎵基外延膜與藍(lán)寶石襯底分離;
(5)去除上述玻璃或者Si襯底,即得到氮化鎵基外延膜。
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