[發(fā)明專利]用于真空鍍膜設(shè)備的加熱裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910027614.8
• 申請日: 2009-05-14
• 公開（公告）號: CN101550532A
• 公開（公告）日: 2009-10-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 廖良生;李述湯
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州大學(xué)
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司
• 代理人: 陶海鋒

1.一種用于真空鍍膜設(shè)備的加熱裝置，包括蒸鍍?nèi)萜?1)和加熱器(2)，其特征在于：所述蒸鍍?nèi)萜鞯牡撞肯蛏贤蛊鹦纬蓪?dǎo)熱槽(3)；所述加熱器的加熱部(4)與所述導(dǎo)熱槽(3)配合加熱。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜設(shè)備的加熱裝置，其特征在于：所述加熱器(2)的中心部位向上凸起，形成所述加熱部(4)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜設(shè)備的加熱裝置，其特征在于：所述導(dǎo)熱槽(3)有2個，對稱位于蒸鍍?nèi)萜鞯牡撞恐醒胛恢谩?/p>

4.一種用于真空鍍膜設(shè)備的加熱裝置的蒸鍍?nèi)萜鳎涮卣髟谟冢核稣翦內(nèi)萜鞯牡撞肯蛏贤蛊鹦纬蓪?dǎo)熱槽。