[發明專利]用于真空鍍膜設備的加熱裝置無效
| 申請號： | 200910027614.8 | 申請日： | 2009-05-14 |
| 公開（公告）號： | CN101550532A | 公開（公告）日： | 2009-10-07 |
| 發明（設計）人： | 廖良生;李述湯 | 申請（專利權）人： | 蘇州大學 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 | 代理人： | 陶海鋒 |
| 地址： | 215123江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 真空鍍膜 設備 加熱 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于真空鍍膜設備的加熱裝置，包括蒸鍍容器(1)和加熱器(2)，其特征在于：所述蒸鍍容器的底部向上凸起形成導熱槽(3)；所述加熱器的加熱部(4)與所述導熱槽(3)配合加熱。
2.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜設備的加熱裝置，其特征在于：所述加熱器(2)的中心部位向上凸起，形成所述加熱部(4)。
3.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜設備的加熱裝置，其特征在于：所述導熱槽(3)有2個，對稱位于蒸鍍容器的底部中央位置。
4.一種用于真空鍍膜設備的加熱裝置的蒸鍍容器，其特征在于：所述蒸鍍容器的底部向上凸起形成導熱槽。
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