[發明專利]一種適用于SCR反應器的還原劑噴射機構有效

申請號：	200910027504.1	申請日：	2009-05-09
公開（公告）號：	CN101879401A	公開（公告）日：	2010-11-10
發明（設計）人：	俞進旺;宋正華;陳開明;楊正平;何美華;袁海燕	申請（專利權）人：	江蘇中科節能環保技術有限公司
主分類號：	B01D53/56	分類號：	B01D53/56;B01D53/86
代理公司：	暫無信息	代理人：	暫無信息
地址：	224003 江***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種適用于 scr 反應器還原劑噴射機構
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【權利要求書】：

1.一種適用于SCR反應器的還原劑噴射機構，包括一根給料總管和數根分配管，分配管的一端與給料總管相通連，分配管上裝有流量計和調節閥，在分配管的下表面上設有若干個噴嘴；并在噴嘴的下方對應地設有由若干個靜態混合葉片組成的導流板；其特征在于：所述噴嘴為喇叭形；并且在噴嘴的外側面上對稱地開設有引流孔；在噴嘴的下方對應地設有引射管，該引射管為大喉口的文丘里管。

2.根據權利要求1所述的一種適用于SCR反應器的還原劑噴射機構，其特征在于：上述噴嘴的喇叭形夾角為8～15°。

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