[發(fā)明專利]一種光學(xué)成像薄膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910025423.8 | 申請日： | 2009-03-04 |
| 公開（公告）號： | CN101526672A | 公開（公告）日： | 2009-09-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 樓益民;申溯;王輝;陳林森 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州蘇大維格光電科技股份公司;蘇州大學(xué);浙江師范大學(xué) |
| 主分類號： | G02B27/09 | 分類號： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人： | 陶海鋒 |
| 地址： | 215123江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 光學(xué) 成像 薄膜 | ||
1.一種光學(xué)成像薄膜，包括成像元件和遮光元件，其特征在于：所述成像元件和遮光元件為薄膜結(jié)構(gòu)，所在的平面相互平行，其中，所述成像元件包括至少兩層微透鏡陣列，所述遮光元件由位于成像系統(tǒng)的入瞳或出瞳位置的孔徑光闌陣列、視場光闌陣列和遮光光闌陣列構(gòu)成，每一孔徑光闌與各微透鏡陣列中的對應(yīng)的微透鏡單元構(gòu)成一個成像通道，各成像通道符合綜合成像條件，在成像系統(tǒng)的中間成像面處設(shè)有所述視場光闌陣列，在所述孔徑光闌陣列和所述視場光闌陣列之間設(shè)有所述遮光光闌陣列，在所述由成像元件和遮光元件構(gòu)成的薄膜結(jié)構(gòu)的至少一個表面上，涂布有粘接層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像薄膜，其特征在于：所述成像元件由制作于一個基底層的兩側(cè)表面的兩層微透鏡陣列構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像薄膜，其特征在于：所述成像元件由至少兩層基底層構(gòu)成，每層基底層上設(shè)置有一個或兩個微透鏡陣列，相鄰基底層之間設(shè)置有限位結(jié)構(gòu)，限位結(jié)構(gòu)的厚度使得相鄰微透鏡陣列的間距符合綜合成像條件。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像薄膜，其特征在于：所述微透鏡陣列中每一微透鏡單元的口徑為5μm～1500μm，微透鏡單元的口徑小于或等于相鄰微透鏡單元中心的間距。
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