[發(fā)明專利]一種光學(xué)成像薄膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910025423.8 | 申請日: | 2009-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN101526672A | 公開(公告)日: | 2009-09-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 樓益民;申溯;王輝;陳林森 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州蘇大維格光電科技股份公司;蘇州大學(xué);浙江師范大學(xué) |
| 主分類號: | G02B27/09 | 分類號: | G02B27/09 |
| 代理公司: | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 陶海鋒 |
| 地址: | 215123江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光學(xué) 成像 薄膜 | ||
1.一種光學(xué)成像薄膜,包括成像元件和遮光元件,其特征在于:所述成像元件和遮光元件為薄膜結(jié)構(gòu),所在的平面相互平行,其中,所述成像元件包括至少兩層微透鏡陣列,所述遮光元件由位于成像系統(tǒng)的入瞳或出瞳位置的孔徑光闌陣列、視場光闌陣列和遮光光闌陣列構(gòu)成,每一孔徑光闌與各微透鏡陣列中的對應(yīng)的微透鏡單元構(gòu)成一個成像通道,各成像通道符合綜合成像條件,在成像系統(tǒng)的中間成像面處設(shè)有所述視場光闌陣列,在所述孔徑光闌陣列和所述視場光闌陣列之間設(shè)有所述遮光光闌陣列,在所述由成像元件和遮光元件構(gòu)成的薄膜結(jié)構(gòu)的至少一個表面上,涂布有粘接層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像薄膜,其特征在于:所述成像元件由制作于一個基底層的兩側(cè)表面的兩層微透鏡陣列構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像薄膜,其特征在于:所述成像元件由至少兩層基底層構(gòu)成,每層基底層上設(shè)置有一個或兩個微透鏡陣列,相鄰基底層之間設(shè)置有限位結(jié)構(gòu),限位結(jié)構(gòu)的厚度使得相鄰微透鏡陣列的間距符合綜合成像條件。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像薄膜,其特征在于:所述微透鏡陣列中每一微透鏡單元的口徑為5μm~1500μm,微透鏡單元的口徑小于或等于相鄰微透鏡單元中心的間距。
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