[發明專利]可編程半導體抗浪涌保護器件、制作工藝及版圖無效
| 申請號: | 200910025023.7 | 申請日: | 2009-02-17 |
| 公開(公告)號: | CN101540323A | 公開(公告)日: | 2009-09-23 |
| 發明(設計)人: | 孫志斌;歐新華;楊兆國;仇利民;林杰仁 | 申請(專利權)人: | 蘇州晶訊科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/102 | 分類號: | H01L27/102;H01L21/8222;H01L23/62;H01L23/48 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215000*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 可編程 半導體 浪涌保護器 制作 工藝 版圖 | ||
1、一種可編程半導體抗浪涌保護器件,用于保護用戶線接口電路板的浪涌保護,其特征在于,包括:
K1端口,包括K1第一引腳和K1第二引腳;
K2端口,包括K2第一引腳和K2第二引腳;
G端口;
A端口,包括A第一引腳和A第二引腳;
第一二極管,包括正極和負極,該正極連接至K1第一引腳;
第一晶閘管,包括柵極、第一主電極和第二主電極,該第一晶閘管并連至所述第一二極管,該第一主電極連接至第一二極管的負極后連接至A第一引腳,該第二電極連接至第一二極管的正極,該第二電極連接K1第二引腳;
第二二極管;包括正極和負極,該正極連接至K2第一引腳;
第二晶閘管,包括柵極、第一主電極和第二主電極,該第二晶閘管并連至所述第二二極管,該第一主電極連接至第二二極管的負極后連接至A第二引腳,該第二電極連接至第二二極管的正極,該第二電極連接K2第二引腳,該第二晶閘管的柵極連接至第一晶閘管的柵極后連接至該柵極端口。
2、如權利要求1所述的可編程半導體抗浪涌保護器件,其特征在于,G端口接外加電壓。
3、如權利要求2所述的可編程半導體抗浪涌保護器件,其特征在于,所述外加電壓的范圍為[-220V,-10V]。
4、如權利要求1所述的可編程半導體抗浪涌保護器件,其特征在于,K1第一引腳連接TIP線,K2第一引腳連接RING線,K1第二引腳和K2第二引腳分別連接SLIC板的輸入端。
5、一種可編程半導體抗浪涌保護器件的制作工藝,其特征在于,包括:
三極管基區光刻,硼注入后,正面形成兩個三極管基區;
可控硅磷調制區擴散窗口光刻,正面形成兩個可控硅調控區;
正面硼擴,形成可控硅硼基區、三極管濃硼區、二極管硼擴散;
正面磷擴,正面可控硅陰極、三極管發射區磷擴散窗口光刻;
背面三極管、二極管N+區磷擴散窗口光刻;
背面硼擴反刻,背面形成兩個可控硅陰極區,二極管硼隔離區;
正面光刻引線孔。
6、一種可編程半導體抗浪涌保護器件的版圖設計,其特征在于,包括兩個三極管、兩個可控硅和兩個二極管。每個三極管包括:背面的三極管N+區,正面的三極管基區、其每個三極管基區內還設置有P+區及N發射區,每個可控硅包括:背面的P+區,正面的P+區,并在P+區內設置有N區,每個二極管區包括:背面的N+區,正面的P+區。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





