[發明專利]下沉鍍膜機

無效

• 申請號: 200910023566.5
• 申請日: 2009-08-11
• 公開（公告）號: CN101642742A
• 公開（公告）日: 2010-02-10
• 發明（設計）人: 李二元;王秀峰;伍媛婷;邢卓;石江濤
• 申請（專利權）人: 陜西科技大學
• 主分類號: B05C3/09
• 分類號: B05C3/09;B05C11/00;B05C13/00;B05C21/00
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司
• 代理人: 徐文權

技術領域

本發明屬于納米材料制備技術，具體涉及一種用于納米薄膜制備的下沉鍍膜機。

背景技術

溶膠-凝膠法制備薄膜的工藝通常有：旋轉涂覆法，浸漬提拉法。旋轉涂覆法是將溶膠滴在基片上，基片固定在一個高速繞自身中心旋轉的平臺上，在旋轉的過程中，溶膠就會涂覆在基片上了。但是這種方法有一定的局限性，僅適用于在平面基片上成膜，受離心力及基片半徑等因素的影響，薄膜的均勻度不是很高，而且此種鍍膜工藝對溶膠的利用率不高，一次性鍍膜基片數量少，效率不高。

浸漬提拉法是把固定在提拉板上的基片浸漬在溶膠中，基片在提拉機的拉力作用下緩慢勻速上升，溶膠均勻的涂覆在基片上。但是此工藝也有不足之處：基片在提拉過程中易受環境因素而產生擺動，會使膜厚不均，影響薄膜質量。

發明內容

本發明的目的在于克服上述現有技術的缺點，提供了一種具有下沉速度穩定，速度控制范圍廣，操作方便簡單，能夠方便、快速、大批量、大面積的制備均勻薄膜而且還可以實現任意形狀的均勻鍍膜的下沉鍍膜機。

為達到上述目的，本發明采用的技術方案是：包括支撐架以及設置在支撐架上的直線可逆往返電機，直線可逆往返電機的輸出軸上固定有用于承載裝溶膠容器的支架，在支撐架上還設置有支撐軸，支撐軸上連接有位于支架上端可轉動的連接軸，在連接軸上套裝有可沿連接軸移動的夾持鍍膜用基片的夾具；所述的支撐架包括用于放置直線可逆往返電機的底座，以及設置在底座上的用于固定直線可逆往返電機的側固定鋼板和上固定鋼板，且在底座及上固定鋼板上還分別開設有直徑大于輸出軸的直徑的孔，且底座的孔的深度略大于直線電機的最大行程。

本發明的夾具包括用于夾持基片的左右鋼板，左右鋼板通過固定螺母設置在連接軸上并能夠沿連接軸移動，且在右鋼板上開設有一用于安裝螺栓的螺孔；在相鄰的兩個所述的基片之間還設置有墊片。

本發明是根據相對運動的原理而提出的浸漬鍍膜方法。即不采取基片向上運動的方式，而采用溶膠液面下降的方式來實現在基片上鍍膜。下沉鍍膜機的優點在于避免了基片在提拉過程中受環境因素影響易擺動而造成薄膜厚度不均的問題，而且實現了目前一次性大批量鍍膜的效果，可在任意形狀的基片上實現均勻鍍膜，方便、快捷、高效。

附圖說明

圖1是本發明的整體結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明的結構原理和工作原理作進一步詳細說明。

參見圖1，本發明包括支撐架以及設置在支撐架上的直線可逆往返電機2，所說的支撐架包括用于放置直線可逆往返電機2的底座1，為了防止直線可逆往返電機2在工作過程中產生的輕微的震動，在底座1上設置有用于固定直線可逆往返電機2的側固定鋼板3和上固定鋼板4，且在底座1及上固定鋼板4上還分別開設有直徑大于輸出軸5的孔，且底座1的孔的深度略大于直線電機的最大行程，直線可逆往返電機2的輸出軸5上固定有用于承載裝溶膠容器8的支架6，在支撐架上還設置有支撐軸7，支撐軸7上連接有位于支架6上端可轉動的連接軸15，連接軸15可以繞支撐軸7做360度旋轉，以方便裝卸基片。在連接軸15上套裝有可沿連接軸15移動的夾持鍍膜用基片9的夾具，所說的夾具包括用于夾持基片9的左右鋼板11、12，左右鋼板11、12通過固定螺母14設置在連接軸15上并能夠沿連接軸15移動，且在右鋼板12上開設有一用于安裝螺栓13的螺孔，相鄰兩基片9之間還設置有墊片10。

由于基片固定牢靠，因此，在鍍膜過程中，不會出現因基片擺動而造成薄膜質量較差的問題。

工作時，接通電源，啟動直線可逆往返電機2，使電機2正轉，直線電機2的輸出軸5帶動支架6及盛溶膠的容器8向上運動，使鍍膜用基片9浸漬在溶膠中，電機反轉，直線電機軸5帶動支架6及容器8緩慢向下運動，從而在基片上均勻鍍膜。