[發明專利]一種錳穩定氧化鋯薄膜的制備方法無效
| 申請號： | 200910023066.1 | 申請日： | 2009-06-26 |
| 公開（公告）號： | CN101580391A | 公開（公告）日： | 2009-11-18 |
| 發明（設計）人： | 盧亞鋒;白利鋒;馮建情;李成山;閆果 | 申請（專利權）人： | 西北有色金屬研究院 |
| 主分類號： | C04B35/622 | 分類號： | C04B35/622;C04B35/48 |
| 代理公司： | 西安創知專利事務所 | 代理人： | 李子安 |
| 地址： | 710016陜*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 穩定 氧化鋯 薄膜 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種錳穩定氧化鋯薄膜的制備方法，其特征在于制備過程為：
(1)按照Zr0.75Mn0.25O2中Zr∶Mn的摩爾比為3∶1稱取金屬氧化物ZrO2粉末和MnO2粉末，混合研磨后在1400℃溫度下恒溫處理12-24小時后取出；
(2)再仔細研磨，混合充分，在壓片機上用硬質鋼模具將混合粉末壓制成圓片；
(3)將步驟(2)中的圓片放在剛玉坩堝里，在硅碳管發熱體管式高溫爐內燒結，在氬氣氣氛中于1400℃溫度下燒結12-24小時，然后隨爐冷卻至室溫，得到相應的穩定氧化鋯樣品；
(4)對步驟(3)中的穩定氧化鋯樣品表面進行打磨制備成靶材；
(5)將沉積室預抽真空，以清洗后的YSZ單晶基片作為襯底，在氬氣氣氛中、壓力為5-10Pa的沉積氣壓和800-900℃襯底溫度下，用能量為550mJ和頻率為5-10Hz的脈沖激光剝蝕步驟(4)中所述靶材15-30分鐘以獲得薄膜，并在一個大氣壓氬氣中將所述薄膜冷卻至室溫，即制得錳穩定氧化鋯薄膜，其中，所述YSZ是指釔穩定的氧化鋯。
2.按照權利要求1所述的一種錳穩定氧化鋯薄膜的制備方法，其特征在于，步驟(2)中所述壓片機的壓力為10Mpa。
3.按照權利要求1所述的一種錳穩定氧化鋯薄膜的制備方法，其特征在于，步驟(5)中所述沉積室的真空度為2×10-4Pa。
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