[發明專利]一種陰極旋轉水熱電泳沉積制備硅酸釔涂層的方法無效
| 申請號: | 200910021216.5 | 申請日: | 2009-02-20 |
| 公開(公告)號: | CN101514473A | 公開(公告)日: | 2009-08-26 |
| 發明(設計)人: | 黃劍鋒;王雅琴;曹麗云;楊強;夏昌奎;殷立雄;盧靖;吳建鵬 | 申請(專利權)人: | 陜西科技大學 |
| 主分類號: | C25D13/02 | 分類號: | C25D13/02;C04B41/87 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 | 代理人: | 張震國 |
| 地址: | 710021陜西省*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陰極 旋轉 電泳 沉積 制備 硅酸 涂層 方法 | ||
1.一種陰極旋轉水熱電泳沉積制備硅酸釔涂層的方法,其特征在于:
1)首先,選用0.05-5微米分析純的硅酸釔(Y2Si2O7)粉體、分析純的異丙醇及碘為原材料,按照Y2Si2O7∶異丙醇=2.5-5g∶150ml的比例配制成懸浮液,在1000-2000r/min下機械攪拌8-12h后,按0.5-1.5g/L的比例在懸浮液中引入碘攪拌8-12h后,置于超聲波中在100-500W的功率下振蕩10-60min后備用;
2)其次,將上述懸浮液加入水熱電泳沉積反應釜中,以石墨電極為陽極,以能夠旋轉的預先沉積了50-100微米厚度SiC涂層的碳/碳復合材料為陰極;
3)然后,待預先沉積了50-100微米厚度SiC涂層的碳/碳復合材料固定于陰極后,密封水熱電泳沉積反應釜,同時將水熱電泳沉積反應釜加熱至100-300℃,控制沉積電壓為50-300V,陰極轉速控制為20-100r/min,沉積10-60min,水熱電泳沉積完成后停止加熱,待水熱釜冷卻至室溫后取出沉積有硅酸釔的碳/碳復合材料;
4)最后,用蒸餾水洗滌沉積有硅酸釔的碳/碳復合材料后置于60-100℃的干燥箱中干燥獲得硅酸釔(Y2Si2O7)涂層涂覆的碳/碳復合材料。
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