[發明專利]一種高性能合成型光降解抗菌塑料的制備方法

無效

• 申請號: 200910019692.3
• 申請日: 2009-03-07
• 公開（公告）號: CN101570608A
• 公開（公告）日: 2009-11-04
• 發明（設計）人: 梁延民;冷亮;曹會民;伊常亮
• 申請（專利權）人: 墾利三合新材料科技有限責任公司
• 主分類號: C08L23/00
• 分類號: C08L23/00;C08K13/02;C08K9/04;C08K3/26;C08K5/05;C08J3/20;C08J3/12;C08K5/18
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• 代理人: 暫無信息

1、一種高性能合成型光降解抗菌塑料的制備方法，主要由無機材料包覆、熔融共混、冷卻切粒等工藝組成，其特征是：采用無機納米碳酸鈣顆粒為載體在表面包覆劑的作用下與抗菌劑混合后制得無機納米抗菌母粒，將光降解劑、制備好的抗菌母粒與烯烴類原料、增溶劑、增塑劑、交聯劑、分散劑按一定比例在170-180℃的溫度下經雙螺桿機熔融共混，在烯烴類原料的主鏈上引入光降解劑，冷卻后切粒制得高性能合成型光降解抗菌塑料，所制得的高性能合成型光降解抗菌塑料密度1.05-1.3g/cm³，拉伸強度≥15MPa，斷裂伸長率≥400％，分解度≥99％。

2、根據權利要求1所述的一種高性能合成型光降解抗菌塑料的制備方法，其特征是：所述抗菌劑為日柏醇、氨基葡糖苯的一種或兩種。

3、根據權利要求1所述的一種高性能合成型光降解抗菌塑料的制備方法，其特征是：所述表面包覆劑為硬脂酸、硬脂酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉的一種或幾種。

4、根據權利要求1、2、3所述的一種高性能合成型光降解抗菌塑料的制備方法，其特征是：所述抗菌母粒中無機納米碳酸鈣顆粒與表面包覆劑、抗菌劑配比為80∶1.5∶1。

5、根據權利要求1所述的一種高性能合成型光降解抗菌塑料的制備方法，其特征是：所述光降解劑為四苯甲酮、硬脂酸鈰、硬脂酸鋁的一種或幾種。

6、根據權利要求1所述的一種高性能合成型光降解抗菌塑料的制備方法，其特征是：所述增溶劑為聚乙烯蠟、氯化聚丙烯、接枝聚丙烯的一種或幾種。

7、根據權利要求1所述的一種高性能合成型光降解抗菌塑料的制備方法，其特征是：所述增塑劑為多元醇苯甲酸酯、鄰苯二甲酸二甲酯的一種或兩種。

8、根據權利要求1所述的一種高性能合成型光降解抗菌塑料的制備方法，其特征是：所述交聯劑為有機過氧化物、乙烯基硅氧烷的一種或兩種。

9、根據權利要求1所述的一種高性能合成型光降解抗菌塑料的制備方法，其特征是：所述分散劑為羥基乙叉二磷酸、羥基乙叉二磷酸鈉的一種或兩種。

10、根據權利要求1、4、5、6、7、8、9所述的一種高性能合成型光降解抗菌塑料的制備方法，其特征是：所述光降解劑、抗菌母粒、烯烴類原料、增溶劑、增塑劑、交聯劑、分散劑的配比為0.3∶1∶100∶0.5∶0.5∶0.5∶0.5。